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流体二维振动抛光超声场分析及实验研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-11页
Contents第11-14页
第一章 绪论第14-23页
   ·引言第14-15页
   ·国内外相关课题研究现状第15-20页
     ·超光滑表面流体抛光技术第15-18页
     ·超声的研究与应用第18-20页
   ·本课题的研究概况第20-23页
     ·研究意义以及研究目标第20-21页
     ·课题来源第21页
     ·课题的研究内容第21-23页
第二章 流体二维振动抛光的研究基础第23-31页
   ·基本原理与特点第23-24页
   ·抛光实验装置第24-26页
   ·理论与实验基础第26-30页
     ·振动流场的研究第26-27页
     ·微观材料去除机理的研究第27-29页
     ·超声空化效应与局部流场的分析第29-30页
   ·本章小结第30-31页
第三章 超声换能器输出特性与声强分布测量第31-41页
   ·超声换能器输出特性测量第31-33页
   ·声场声强分布测量第33-37页
     ·水听器法第33-36页
     ·染色法第36-37页
   ·游离磨料的运动速度初步推算第37-40页
   ·本章小结第40-41页
第四章 整体声场压力仿真及装置的优化设计第41-62页
   ·超声三维波动方程推导第41-44页
   ·整体声场压力仿真及讨论第44-52页
   ·装置的优化设计第52-61页
     ·抛光槽的优化设计第52-58页
     ·抛光夹具的优化设计第58-59页
     ·实验对比第59-61页
   ·小结第61-62页
第五章 流体二维振动抛光实验研究第62-80页
   ·实验材料第62-63页
     ·石英玻璃第62页
     ·硅片第62-63页
   ·表面粗糙度测量仪器第63-65页
     ·WYKO非接触表面轮廓仪第63-64页
     ·SRT-1(F)型表面粗糙度测量仪第64-65页
   ·石英玻璃抛光实验第65-70页
     ·输入电压的影响第65-67页
     ·抛光液浓度的影响第67-69页
     ·抛光时间的影响第69-70页
   ·硅片的抛光实验第70-74页
     ·抛光时间的影响第70-73页
     ·化学添加剂的影响第73-74页
   ·正交抛光实验设计与分析第74-79页
     ·实验因数水平以及正交表选择第75页
     ·实验结果以及方差分析第75-79页
   ·本章小结第79-80页
结论与展望第80-82页
参考文献第82-85页
攻读学位期间发表论文第85-87页
致谢第87页

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