摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
1 绪言 | 第10-28页 |
·课题的来源及硬盘磁存储技术的发展 | 第10-13页 |
·DLC 薄膜相关的基本概念 | 第13-22页 |
·国内外概况和预测 | 第22-26页 |
·本文的工作 | 第26-28页 |
2 DLC 薄膜沉积设备及分析方法简介 | 第28-42页 |
·薄膜沉积系统 | 第28-35页 |
·薄膜分析方法 | 第35-42页 |
3 不同工艺制备DLC 的结构研究 | 第42-58页 |
·样品制备和试验条件 | 第42-43页 |
·试验结果与分析 | 第43-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
4 ECR-CVD 制备 a-C:H:N 薄膜的研究 | 第58-71页 |
·研究前言 | 第58页 |
·样品制备和试验条件 | 第58-60页 |
·试验结果与分析 | 第60-70页 |
·本章小结 | 第70-71页 |
5 a-C:H:N 薄膜的结构和性能研究 | 第71-84页 |
·分析条件 | 第71-72页 |
·试验结果与分析 | 第72-83页 |
·本章小结 | 第83-84页 |
6 衬底倾斜角度对FCVA 制DLC 的结构和性能影响 | 第84-95页 |
·研究前言 | 第84-85页 |
·样品制备和试验条件 | 第85-86页 |
·试验结果与分析 | 第86-95页 |
·本章小结 | 第95页 |
7 衬底偏压对FCVA 制DLC 的结构和性能影响 | 第95-111页 |
·研究前言 | 第95-96页 |
·样品制备和试验条件 | 第96-97页 |
·试验结果与分析 | 第97-110页 |
·本章小结 | 第110-111页 |
8 衬底材料对FCVA 制DLC 的结构影响 | 第111-121页 |
·研究前言 | 第111-112页 |
·样品制备和试验条件 | 第112-113页 |
·试验结果与分析 | 第113-120页 |
·本章小结 | 第120-121页 |
9 FCVA 方法制备DLC 薄膜的结合力研究 | 第121-133页 |
·研究前言 | 第121-122页 |
·试验条件 | 第122-124页 |
·试验结果与分析 | 第124-132页 |
·本章小结 | 第132-133页 |
10 总结与展望 | 第133-136页 |
·全文总结 | 第133-134页 |
·展望 | 第134-136页 |
致谢 | 第136-137页 |
参考文献 | 第137-146页 |
附录 | 第146页 |