| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 前言 | 第8-18页 |
| ·TiNi 合金的发展与应用现状 | 第8-9页 |
| ·TiNi 形状记忆合金薄膜及其制备 | 第9-11页 |
| ·TiNi 形状记忆合金薄膜的应用 | 第9-10页 |
| ·TiNi 形状记忆合金薄膜的制备方法 | 第10-11页 |
| ·马氏体相变及形状记忆机理 | 第11-12页 |
| ·马氏体相变 | 第11页 |
| ·形状记忆机理 | 第11-12页 |
| ·TiNi 合金与TiNi 薄膜中的相变 | 第12-14页 |
| ·TiNi 合金中的相变 | 第12-13页 |
| ·TiNi 薄膜中的相变 | 第13-14页 |
| ·TiNi 薄膜中马氏体相变影响因素 | 第14-16页 |
| ·Ni 含量对相变的影响 | 第14-15页 |
| ·薄膜的制备方法对相变的影响 | 第15页 |
| ·添加元素对相变的影响 | 第15-16页 |
| ·课题研究的目的及意义 | 第16-18页 |
| ·选题意义 | 第16页 |
| ·研究内容与研究目标 | 第16-17页 |
| ·技术路线图 | 第17-18页 |
| 2 实验设备与测试方法 | 第18-23页 |
| ·薄膜的制备 | 第18-20页 |
| ·实验设备 | 第18-19页 |
| ·溅射靶材 | 第19-20页 |
| ·沉积基片 | 第20页 |
| ·溅射参数 | 第20页 |
| ·薄膜的晶化及相变过程测试 | 第20-21页 |
| ·薄膜晶化退火 | 第21页 |
| ·薄膜的物相分析 | 第21-22页 |
| ·SEM 分析 | 第22-23页 |
| 3 退火温度对富Ni 薄膜组织的影响 | 第23-36页 |
| ·靶材的原始结构及相变过程分析 | 第23-24页 |
| ·溅射态薄膜组织结构分析 | 第24-27页 |
| ·溅射态薄膜SEM 分析 | 第25-26页 |
| ·溅射态薄膜TEM、XRD、DSC 分析 | 第26-27页 |
| ·溅射态薄膜连续加热的XRD 分析 | 第27-29页 |
| ·退火温度对富Ni 薄膜组织结构的影响 | 第29-35页 |
| ·退火态薄膜的SEM 分析 | 第30页 |
| ·不同退火温度后薄膜的XRD 分析 | 第30-31页 |
| ·不同退火温度后薄膜的TEM 分析 | 第31-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 4 衬底温度对富Ni 薄膜组织结构的影响 | 第36-43页 |
| ·试样制备 | 第36-37页 |
| ·实验结果及分析 | 第37-40页 |
| ·薄膜的表面及截面形貌分析 | 第37-38页 |
| ·不同衬底温度下获得晶化薄膜的XRD 分析 | 第38页 |
| ·不同衬底温度下获得晶化薄膜的TEM 分析 | 第38-40页 |
| ·薄膜残余应力分析 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 5 富Ti-TiNi 薄膜的组织结构分析 | 第43-49页 |
| ·溅射态Ti-47.13% Ni 薄膜的DSC 分析 | 第43-44页 |
| ·Ti-47.13% Ni 薄膜530℃晶化退火后的组织结构分析 | 第44-46页 |
| ·Ti-47.13% Ni 薄膜的XRD 分析 | 第44页 |
| ·Ti-47.13% Ni 薄膜的TEM 分析 | 第44-46页 |
| ·衬底加热530℃溅射富Ti-TiNi 薄膜的组织结构分析 | 第46-48页 |
| ·薄膜的XRD 分析 | 第46页 |
| ·薄膜的TEM 分析 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 6 TiNi 形状记忆合金薄膜中的相变 | 第49-58页 |
| ·不同热处理工艺下Ti-50.89% Ni 薄膜的DSC 分析 | 第49-51页 |
| ·不同热处理工艺下Ti-47.13% Ni 薄膜的DSC 分析 | 第51-53页 |
| ·Ti-47.13% Ni 薄膜相变过程的动态观察 | 第53-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 7 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附录 | 第65页 |
| (a) 研究生阶段所获荣誉与奖励 | 第65页 |
| (b) 研究生阶段公开发表论文 | 第65页 |
