中文摘要 | 第1-3页 |
Abstract | 第3-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-25页 |
·分子模拟简介 | 第8-11页 |
·分子模拟的概念及方法 | 第8-9页 |
·分子模拟技术的应用及前景 | 第9-11页 |
·蒙脱石介绍 | 第11-13页 |
·蒙脱石结构特点 | 第11-12页 |
·蒙脱石性质 | 第12-13页 |
·分子模拟技术在蒙脱石体系的研究现状 | 第13-15页 |
·蒙脱石水化膨胀性质的研究 | 第13-14页 |
·蒙脱石-离子-水体系的量子化学计算 | 第14-15页 |
·有机插层蒙脱石的分子模拟 | 第15页 |
·砷 | 第15-18页 |
·砷的理化性质 | 第15-16页 |
·砷中毒的危害 | 第16-17页 |
·砷污染 | 第17页 |
·饮用水的砷含量标准 | 第17-18页 |
·钛柱撑蒙脱石 | 第18-20页 |
·钛柱撑蒙脱石的研究进展 | 第18-19页 |
·钛柱撑蒙脱石的应用 | 第19-20页 |
·国内外除砷研究现状 | 第20-23页 |
·本课题的研究内容及意义 | 第23-25页 |
第二章 分子动力学方法和材料计算软件Ceriu52介绍 | 第25-39页 |
·分子动力学方法 | 第25-33页 |
·分子动力学方法的概念 | 第25页 |
·分子动力学方法的适用范围和使用限制 | 第25-26页 |
·分子动力学模拟基础知识 | 第26-33页 |
·材料计算软件Cerius~2介绍 | 第33-39页 |
·C2.Visualizer 模块和 C2.Crystal Builder 模块 | 第34页 |
·C2.OFF 模块 | 第34-35页 |
·C2.Minimizer模块 | 第35-36页 |
·C2.Dynamics模块 | 第36-38页 |
·C2.Dynamics Analysis模块 | 第38-39页 |
第三章 水化 Na-蒙脱石和 Na/Mg-蒙脱石的分子动力学模拟 | 第39-54页 |
·分子间位能模型 | 第39-41页 |
·参数设置 | 第41-42页 |
·力场选择 | 第41页 |
·电荷计算 | 第41页 |
·非键作用参数设置 | 第41页 |
·优化计算 | 第41-42页 |
·蒙脱石结构模型建立 | 第42-43页 |
·模拟方法 | 第43页 |
·模拟结果与讨论 | 第43-53页 |
·结构优化分析 | 第43-46页 |
·膨胀形式 | 第46-47页 |
·层间结构 | 第47-51页 |
·层间水和补偿离子的扩散 | 第51-53页 |
·本章结论 | 第53-54页 |
第四章 氟处理钛柱撑蒙脱石的制备与表征 | 第54-77页 |
·实验试剂与原料 | 第54页 |
·实验仪器与设备 | 第54-55页 |
·氟处理钛柱撑蒙脱石的制备 | 第55-56页 |
·钛柱原液制备 | 第55页 |
·氟处理钛柱撑蒙脱石的制备 | 第55-56页 |
·材料的表征手段与样品处理 | 第56-59页 |
·表征结果与分析 | 第59-75页 |
·X 射线衍射分析 | 第59-62页 |
·傅立叶转换红外光谱分析 | 第62-65页 |
·差热与热重分析 | 第65-67页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第67-68页 |
·透射电子显微镜分析 | 第68-69页 |
·比表面积及孔结构分析 | 第69-75页 |
·本章结论 | 第75-77页 |
第五章 氟处理钛柱撑蒙脱石对砷酸根吸附的实验研究 | 第77-84页 |
·实验试剂与材料 | 第77页 |
·实验仪器与设备 | 第77-78页 |
·吸附实验 | 第78-82页 |
·吸附平衡时间 | 第78页 |
·不同材料对砷的吸附效果 | 第78-80页 |
·介质pH 值的影响 | 第80-81页 |
·光照强度的影响 | 第81-82页 |
·砷的初始浓度的影响 | 第82页 |
·本章结论 | 第82-84页 |
第六章 结束语 | 第84-86页 |
·研究结论 | 第84-85页 |
·工作展望 | 第85-86页 |
参考文献 | 第86-97页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第97-98页 |
致谢 | 第98页 |