| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 主要缩略语 | 第10-11页 |
| 中文图表目录 | 第11-14页 |
| 英文图表目录 | 第14-18页 |
| 第一部分 坐汞滴电极/溶液界面电化学张力的研究 | 第18-114页 |
| 第一章 界面张力测定及其在电化学中的应用 | 第19-54页 |
| ·界面张力的测定方法 | 第19-38页 |
| ·汞电极/溶液界面的性质 | 第38-44页 |
| ·汞电极/溶液界面张力的应用 | 第44-45页 |
| ·研究思路和主要创新 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-54页 |
| 第二章 坐汞滴电极上电化学张力仪的研制 | 第54-81页 |
| ·实验部分 | 第55-56页 |
| ·实验药品 | 第55页 |
| ·实验仪器 | 第55-56页 |
| ·实验方法 | 第56页 |
| ·实验步骤 | 第56页 |
| ·张力电化学仪的设计与制作 | 第56-64页 |
| ·仪器的设计 | 第57-60页 |
| ·张力检测原理 | 第60-63页 |
| ·仪器和方法的优点 | 第63-64页 |
| ·仪器性能表征 | 第64-67页 |
| ·张力响应的灵敏度 | 第64-65页 |
| ·测量的重现性 | 第65-66页 |
| ·仪器的稳定性 | 第66-67页 |
| ·实验参数的影响 | 第67-72页 |
| ·汞滴质量影响 | 第67-68页 |
| ·起始电位影响 | 第68-71页 |
| ·电位扫描速率的影响 | 第71页 |
| ·溶液中溶解氧的影响 | 第71-72页 |
| ·采样方法研究 | 第72-75页 |
| ·循环伏安方法 | 第72-73页 |
| ·常规脉冲伏安方法 | 第73-74页 |
| ·差分脉冲伏安方法 | 第74-75页 |
| ·界面张力电化学仪的初步应用 | 第75-78页 |
| ·初期实验装置 | 第75-76页 |
| ·结果与讨论 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第三章 坐汞滴电极上TDMBA的界面吸附张力电化学研究 | 第81-95页 |
| ·实验部分 | 第81-82页 |
| ·界面张力的测定 | 第82-85页 |
| ·膜压 | 第85-88页 |
| ·膜压和电位的关系 | 第85-87页 |
| ·膜压和TDMBA浓度的关系 | 第87-88页 |
| ·TDMBA在Hg上吸附的热力学参数 | 第88-92页 |
| ·吸附自由能 | 第88-90页 |
| ·表面超量 | 第90-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-95页 |
| 第四章 坐汞滴电极上钴络合物的吸附取向及催化还原NO_2~-的张力研究 | 第95-114页 |
| ·实验部分 | 第95-96页 |
| ·钴-丁二酮肟体系的研究 | 第96-104页 |
| ·影响界面张力测定的因素 | 第96-98页 |
| ·吸附态与界面张力的关系 | 第98-102页 |
| ·吸附态与膜压的关系 | 第102-103页 |
| ·NPV采样方法 | 第103-104页 |
| ·钴-甲基百里酚监-亚硝酸根体系的研究 | 第104-111页 |
| ·不同体系的电流和界面张力响应 | 第104-106页 |
| ·络合物浓度对亚硝酸根催化还原的影响 | 第106-110页 |
| ·电位扫描速率对界面张力测量的影响 | 第110-111页 |
| ·本章小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-114页 |
| 第二部分 iR_u降池内补偿的研究 | 第114-172页 |
| 第五章 电化学中iR_u降补偿概述 | 第115-129页 |
| ·iR_u降的产生及其影响 | 第115-118页 |
| ·iR_u降的补偿方法 | 第118-124页 |
| ·研究思路和主要创新 | 第124-126页 |
| 参考文献 | 第126-129页 |
| 第六章 iR_u池内补偿的实现、验证和影响因素研究 | 第129-154页 |
| ·实验部分 | 第129-131页 |
| ·仪器和试剂 | 第129-130页 |
| ·电化学池的设计 | 第130页 |
| ·实验操作 | 第130-131页 |
| ·iR_u降池内补偿的实现 | 第131-136页 |
| ·池内补偿的原理 | 第131-133页 |
| ·结果分析 | 第133-136页 |
| ·iR_u降池内补偿的验证 | 第136-142页 |
| ·CV法验证 | 第137-138页 |
| ·SWV法验证 | 第138-140页 |
| ·I—t法验证 | 第140-142页 |
| ·影响iR_u降池内补偿的因素 | 第142-151页 |
| ·反馈电阻 | 第142-143页 |
| ·反馈电流 | 第143-147页 |
| ·电极材料 | 第147-148页 |
| ·电解池形状 | 第148-151页 |
| ·本章小结 | 第151-152页 |
| 参考文献 | 第152-154页 |
| 第七章 iR_u池内补偿技术的初步应用 | 第154-172页 |
| ·实验部分 | 第154-155页 |
| ·仪器和试剂 | 第154页 |
| ·实验方法 | 第154-155页 |
| ·对电化学分析结果的影响 | 第155-163页 |
| ·峰电位与补偿程度的关系 | 第155-156页 |
| ·峰电流与补偿程度的关系 | 第156-157页 |
| ·峰电位相近物质的分离 | 第157-160页 |
| ·检测的灵敏度和线性范围 | 第160-163页 |
| ·支持电解质的影响 | 第163-169页 |
| ·支持电解质的浓度 | 第163-166页 |
| ·无支持电解质中的行为 | 第166-169页 |
| ·本章小结 | 第169-170页 |
| 参考文献 | 第170-172页 |
| 全文总结 | 第172-175页 |
| 附录:博士期间完成论文情况 | 第175-176页 |
| 致谢 | 第176页 |
