| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-30页 |
| ·光电子学在未来科技中的地位 | 第8-11页 |
| ·硅基发光材料的发展 | 第11-20页 |
| ·硅/氧化硅体系的发光研究 | 第20-24页 |
| ·硅/氧化硅体系的发光机理及有待解决的问题 | 第24-29页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第29-30页 |
| 第二章 An/(Si/SiO_2)/p-Si结构的制备 | 第30-38页 |
| ·Si/SiO_2超晶格常用的制备方法 | 第30-34页 |
| ·Au/(Si/SiO_2)/p-Si结构的制备 | 第34-36页 |
| ·测量结果 | 第36-38页 |
| 第三章 Au/(Si/SiO_2)/p-Si结构中电流形成的机制 | 第38-45页 |
| ·载流子输运常用的模型 | 第38-41页 |
| ·电流形成机制的分析 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 Au/(Si/SiO_2)/p-Si结构电致发光的研究 | 第45-54页 |
| ·常见的半导体发光模型 | 第45-49页 |
| ·电致发光的分析 | 第49-51页 |
| ·结论 | 第51-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
| ·总结 | 第54页 |
| ·硅基发光材料的展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 附录:作者攻读硕士期间发表和已完成的论文目录 | 第60页 |
