工频X光机关键物理量检测技术的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-15页 |
| ·选题依据和研究意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-13页 |
| ·主要研究内容和技术路线 | 第13页 |
| ·研究特色 | 第13-14页 |
| ·主要工作 | 第14-15页 |
| 第2章 辐射计量学的相关基础理论 | 第15-23页 |
| ·X 射线的产生 | 第15页 |
| ·X 射线的基本特征 | 第15-16页 |
| ·电离辐射学基础 | 第16-20页 |
| ·电离辐射对人体的影响 | 第20-23页 |
| 第3章 X 射线的衰减理论和探测技术 | 第23-33页 |
| ·X 射线与物质的相互作用 | 第23-24页 |
| ·X 射线谱 | 第24-28页 |
| ·X 射线的衰减规律 | 第28-30页 |
| ·连续X 射线束的平衡 | 第30-31页 |
| ·核辐射探测器 | 第31-33页 |
| 第4章 关键物理量检测的实现方法 | 第33-46页 |
| ·管电压、剂量、半值层、曝光时间的物理意义 | 第33-35页 |
| ·50-120kV 衰减曲线 | 第35页 |
| ·X 射线平衡的数学模型 | 第35-37页 |
| ·X 射线平衡的性质 | 第37-38页 |
| ·X 射线平衡的能谱学解释 | 第38-39页 |
| ·检测技术的方法实现 | 第39-46页 |
| ·管电压的测量方法 | 第39-42页 |
| ·半值层的测量方法 | 第42-44页 |
| ·剂量的测量方法 | 第44-45页 |
| ·曝光时间测量方法研究 | 第45-46页 |
| 第5章 仪器的整体设计 | 第46-58页 |
| ·检定仪器总体要求 | 第46页 |
| ·硬件设计方案及技术路线 | 第46-53页 |
| ·半导体探测器 | 第46-47页 |
| ·前置放大器 | 第47-48页 |
| ·主放大电路 | 第48-49页 |
| ·滤波电路 | 第49-50页 |
| ·A/D 转化方案设计及电路设计 | 第50-51页 |
| ·显示电路 | 第51-52页 |
| ·单片机控制器 | 第52-53页 |
| ·软件设计方案及技术路线 | 第53-58页 |
| ·总体的工作流程 | 第53-54页 |
| ·下位机的工作流程 | 第54-55页 |
| ·无线数据传输软件 | 第55-56页 |
| ·上位机的工作流程 | 第56-58页 |
| 第6章 仪器的测试与性能指标 | 第58-62页 |
| ·仪器准确性测试 | 第58-60页 |
| ·仪器线性测试 | 第60页 |
| ·仪器重复性测试 | 第60-61页 |
| ·仪器的性能指标 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第66-67页 |
| 附录A 工频光机刻度系数表 | 第67-68页 |
