微弧氧化技术在Ti-6Al-4V表面制备钙/磷涂层的研究
| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| ·选题目的与意义 | 第7-9页 |
| ·微弧氧化技术的历史与现状 | 第9-11页 |
| ·微弧氧化的特点和应用方向 | 第11-13页 |
| ·微弧氧化的特点 | 第11-13页 |
| ·微弧氧化的应用方向 | 第13页 |
| ·钛及其合金的微弧氧化特点 | 第13-23页 |
| ·钛及其合金微弧氧化陶瓷层的特点 | 第15-16页 |
| ·钛合金微弧氧化的影响因素 | 第16-18页 |
| ·钛合金微弧氧化研究现状 | 第18-23页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第23-33页 |
| ·实验材料及设备 | 第23-25页 |
| ·钛合金试样制备 | 第24页 |
| ·模拟唾液的制备 | 第24页 |
| ·模拟体液的制备 | 第24页 |
| ·微弧氧化设备 | 第24-25页 |
| ·实验方法 | 第25-31页 |
| ·工艺流程 | 第25-26页 |
| ·工艺参数的确定 | 第26-28页 |
| ·分析测试方法 | 第28-30页 |
| ·实验方案 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 钛合金微弧氧化涂层的表面特征 | 第33-53页 |
| ·氧化顺序和电解质成分对涂层表面特征的影响 | 第33-40页 |
| ·氧化顺序和电解质成分对涂层相组成的影响 | 第33-36页 |
| ·氧化顺序和电解质成分对涂层形貌的影响 | 第36-39页 |
| ·氧化顺序和电解质成分对涂层元素组成的影响 | 第39-40页 |
| ·时间参数对涂层特征的影响 | 第40-45页 |
| ·不同氧化时间下陶瓷膜的表面形貌、孔径和孔隙率 | 第40-44页 |
| ·不同氧化时间下的涂层元素组成分析 | 第44-45页 |
| ·电流密度对涂层特征的影响 | 第45-50页 |
| ·不同电流密度下的膜层表面形貌、孔径和孔隙率 | 第45-49页 |
| ·不同电流密度下的涂层元素组成分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-53页 |
| 第四章 钛合金微弧氧化涂层的性能分析 | 第53-67页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的硬度和厚度 | 第53-56页 |
| ·陶瓷层的厚度 | 第53-54页 |
| ·涂层的表面硬度 | 第54-55页 |
| ·涂层的截面硬度 | 第55-56页 |
| ·微弧氧化涂层的磨损性能 | 第56-61页 |
| ·载荷对微弧氧化涂层磨损性能的影响 | 第56-57页 |
| ·时间对微弧氧化涂层的磨损性能的影响 | 第57-58页 |
| ·微弧氧化涂层在不同时间段的磨损性能分析 | 第58-59页 |
| ·涂层磨损性能与基体磨损性能的比较 | 第59-61页 |
| ·微弧氧化涂层腐蚀性能 | 第61-65页 |
| ·电化学试验 | 第61-64页 |
| ·涂层的全浸渍腐蚀 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 微弧氧化涂层形成机理探讨 | 第67-77页 |
| ·微弧氧化顺序对于生成涂层的影响 | 第67-73页 |
| ·钙磷元素进入涂层方式的探讨 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第六章 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-86页 |
| 详细摘要 | 第86-89页 |
| Abstract | 第89-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
