| 第一章 绪论 | 第1-30页 |
| ·纳米材料及其基本特性 | 第6-8页 |
| ·纳米材料简介 | 第6页 |
| ·纳米材料的基本特性 | 第6-8页 |
| ·薄膜技术的发展 | 第8-9页 |
| ·薄膜技术的发展过程 | 第8-9页 |
| ·薄膜的体系性能及应用 | 第9页 |
| ·薄膜的主要制备方法 | 第9-11页 |
| ·分子束外延生长法 | 第10页 |
| ·溅射镀膜 | 第10页 |
| ·化学气相沉积法 | 第10-11页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第11-14页 |
| ·溶胶凝胶法发展历程简介 | 第11-12页 |
| ·溶胶凝胶法基本原理 | 第12-13页 |
| ·溶胶凝胶法制备薄膜的常用方法 | 第13-14页 |
| ·氧化锌简介与结构特性 | 第14-16页 |
| ·简介 | 第14-15页 |
| ·ZnO 的结构特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO 的基本性能 | 第16-23页 |
| ·光学特性 | 第16-18页 |
| ·光催化特性 | 第18-20页 |
| ·光电转换特性 | 第20-21页 |
| ·电学特性 | 第21页 |
| ·ZnO 薄膜的气敏与压敏特性 | 第21-22页 |
| ·氧化锌的阻燃性与增稠作用 | 第22-23页 |
| ·氧化锌的应用 | 第23-28页 |
| ·制作紫外光探测器 | 第24页 |
| ·可与GaN 互作缓冲层 | 第24-25页 |
| ·用于光电器件的单片集成 | 第25-26页 |
| ·制作表面声波器件 | 第26-28页 |
| ·本文研究的目的及内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验材料及实验方法 | 第30-38页 |
| ·实验依据 | 第30-32页 |
| ·实验原料及使用仪器 | 第32-33页 |
| ·实验原料 | 第32页 |
| ·实验所用仪器 | 第32-33页 |
| ·基板材料及处理方法 | 第33页 |
| ·薄膜制备过程 | 第33-35页 |
| ·氧化锌溶胶的制备 | 第33页 |
| ·基片的清洗 | 第33-34页 |
| ·涂膜 | 第34页 |
| ·干燥 | 第34页 |
| ·热处理 | 第34-35页 |
| ·测试方法 | 第35-38页 |
| ·差热与失重分析 | 第35页 |
| ·红外光谱分析 | 第35-36页 |
| ·物相结构分析 | 第36页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第36页 |
| ·透射与吸收光谱分析 | 第36页 |
| ·PL 谱分析 | 第36-38页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第38-59页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·厚度及胶体的加水量对薄膜质量的影响 | 第39-41页 |
| ·厚度对薄膜质量的影响 | 第39-40页 |
| ·胶体加水量的变化对薄膜质量的影响 | 第40-41页 |
| ·柠檬酸对氧化锌薄膜质量的影响 | 第41-44页 |
| ·络合物结构分析 | 第41-43页 |
| ·晶化温度和物相分析 | 第43-44页 |
| ·温度对氧化锌薄膜质量的影响 | 第44-55页 |
| ·XRD (X-ray diffraction)谱 | 第44-47页 |
| ·FE–SEM | 第47-52页 |
| ·薄膜的光学性能以及温度对其的影响 | 第52-53页 |
| ·PL (photo luminescence)谱 | 第53-55页 |
| ·陈化过程对纳米ZnO 微粒结构性质的影响 | 第55-59页 |
| ·陈化时间对胶粒尺寸的影响 | 第55-56页 |
| ·陈化时间对荧光光谱的影响 | 第56-59页 |
| 第四章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-70页 |
| 摘要 | 第70-73页 |
| ABSTRACT | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 导师及作者简介 | 第78页 |