反应磁控溅射法制备TiN薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·硬质薄膜材料简介 | 第9-11页 |
| ·硬质薄膜材料的发展 | 第9-10页 |
| ·硬质薄膜材料的制备 | 第10-11页 |
| ·TiN 薄膜应用与研究进展 | 第11-16页 |
| ·TiN 薄膜结构与性质 | 第11-13页 |
| ·制备方法对TiN 薄膜结构和性能的影响 | 第13-14页 |
| ·工艺参数对TiN 薄膜结构和性能的影响 | 第14-15页 |
| ·TiN 薄膜的应用 | 第15页 |
| ·TiN 薄膜的合金化 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射技术介绍 | 第16-17页 |
| ·本课题的研究意义和内容 | 第17-19页 |
| ·本课题的研究意义 | 第17-18页 |
| ·本课题的研究内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 试验原理与方法 | 第22-30页 |
| ·试验研究路线 | 第22-23页 |
| ·试验设备 | 第23页 |
| ·试验材料 | 第23-24页 |
| ·TiN 薄膜制备 | 第24-25页 |
| ·辉光放电及等离子体的产生 | 第24页 |
| ·薄膜沉积工艺 | 第24-25页 |
| ·薄膜沉积原理 | 第25页 |
| ·薄膜微观分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜性能研究 | 第26-28页 |
| ·显微硬度测试 | 第26页 |
| ·膜厚测量 | 第26-27页 |
| ·堆积因子（Packing Factor）测量 | 第27页 |
| ·膜基结合力表征 | 第27-28页 |
| ·理论分析与讨论 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 氮化钛薄膜微观结构和形貌控制研究 | 第30-53页 |
| ·基准沉积工艺参数的确定 | 第30-31页 |
| ·基准工艺参数沉积薄膜XRD 分析 | 第30-31页 |
| ·基准工艺参数沉积薄膜能谱分析 | 第31页 |
| ·沉积时间对所制备TiN 薄膜的影响 | 第31-36页 |
| ·TiN 薄膜XRD 分析 | 第32页 |
| ·TiN 薄膜SEM 分析 | 第32-35页 |
| ·TiN 薄膜能谱分析 | 第35-36页 |
| ·工作总压对所制备TiN 薄膜的影响 | 第36-38页 |
| ·TiN 薄膜XRD 分析 | 第36-37页 |
| ·TiN 薄膜SEM 分析 | 第37-38页 |
| ·氮气分压对所制备TiN 薄膜的影响 | 第38-43页 |
| ·TiN 薄膜XRD 分析 | 第38-39页 |
| ·TiN 薄膜SEM 分析 | 第39-41页 |
| ·TiN 薄膜TEM 分析 | 第41-42页 |
| ·TiN 薄膜能谱分析 | 第42-43页 |
| ·基底温度对所制备TiN 薄膜的影响 | 第43-46页 |
| ·TiN 薄膜XRD 分析 | 第43-44页 |
| ·TiN 薄膜SEM 分析 | 第44-45页 |
| ·TiN 薄膜能谱分析 | 第45-46页 |
| ·衬底偏压对所制备TiN 薄膜的影响 | 第46-50页 |
| ·TiN 薄膜XRD 分析 | 第46-47页 |
| ·TiN 薄膜SEM 分析 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 氮化钛薄膜性能控制研究 | 第53-64页 |
| ·显微硬度控制研究 | 第53-55页 |
| ·工作气压对TiN 薄膜硬度的影响 | 第53-54页 |
| ·基底温度对TiN 薄膜硬度的影响 | 第54页 |
| ·衬底偏压对TiN 薄膜硬度的影响 | 第54-55页 |
| ·膜基结合力控制研究 | 第55-60页 |
| ·氮气分压对TiN 薄膜膜基结合力性能的影响 | 第56-57页 |
| ·基底温度对TiN 薄膜膜基结合力性能的影响 | 第57-58页 |
| ·衬底偏压对TiN 薄膜膜基结合力性能的影响 | 第58-59页 |
| ·沉积时间对TiN 薄膜膜基结合力性能的影响 | 第59-60页 |
| ·堆积因子控制研究 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第五章 氮化钛薄膜溅射沉积微观过程及生长分析 | 第64-75页 |
| ·溅射沉积TiN 薄膜微观过程分析 | 第64-69页 |
| ·鞘层电位的形成及衬底偏压的施加 | 第64-65页 |
| ·等离子体与阴极靶的相互作用 | 第65-66页 |
| ·粒子溅射速率分析 | 第66-68页 |
| ·薄膜的生长速率模型研究 | 第68-69页 |
| ·TiN 薄膜成核长大分析 | 第69-72页 |
| ·连续薄膜的形成 | 第69-70页 |
| ·薄膜的成核长大热力学分析 | 第70页 |
| ·薄膜的成核长大动力学分析 | 第70-72页 |
| ·TiN 薄膜生长取向和微观形貌分析 | 第72-73页 |
| ·TiN 薄膜生长取向分析 | 第72页 |
| ·TiN 薄膜微观形貌分析 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及研究工作 | 第78页 |
