Ni纳米线阵列膜的制备与性能研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
引言 | 第7-8页 |
1 文献综述 | 第8-20页 |
·样膜法 | 第8-9页 |
·样膜法的特点 | 第8页 |
·AAO样模法的优点 | 第8-9页 |
·基本原理 | 第9-15页 |
·阳极氧化铝膜的研究进展 | 第9-13页 |
·电化学沉积方法的发展历程 | 第13-15页 |
·应用 | 第15-19页 |
·阳极氧化膜在光学上的应用 | 第15-16页 |
·多孔氧化铝膜在光电元件中的应用 | 第16页 |
·多孔阳极氧化膜在膜分离中的应用 | 第16-17页 |
·阳极氧化膜在磁学上的应用 | 第17-18页 |
·多孔氧化铝膜在太阳能选择性吸收中的应用 | 第18-19页 |
·在其他方面的应用 | 第19页 |
·结束语 | 第19-20页 |
2 试验部分 | 第20-30页 |
·试验材料与试验药品、试验仪器及设备 | 第20-21页 |
·试验材料 | 第20页 |
·试验仪器及设备 | 第20-21页 |
·试验药品 | 第21页 |
·试验方法 | 第21-28页 |
·铝表面预处理 | 第22-24页 |
·多孔氧化铝膜的制备 | 第24-26页 |
·阳极氧化膜的剥离 | 第26-27页 |
·电沉积 | 第27页 |
·阳极氧化铝膜与纳米线阵列膜的表征 | 第27-28页 |
·Ni纳米线阵列膜的性能研究 | 第28-30页 |
·Ni纳米线阵列膜的耐蚀性研究 | 第28-29页 |
·Ni纳米线阵列膜的光功能特性研究 | 第29-30页 |
3 试验结果及讨论 | 第30-57页 |
·预处理的影响 | 第30页 |
·阳极氧化膜的最佳制备工艺研究 | 第30-46页 |
·搅拌的影响 | 第30页 |
·铝阳极氧化膜的形成过程 | 第30-32页 |
·阳极氧化铝膜的表征 | 第32-37页 |
·正交实验结果分析 | 第37-39页 |
·膜性能的影响因素 | 第39-46页 |
·最佳工艺的选择 | 第46页 |
·交流电沉积与纳米线阵列膜的表征 | 第46-51页 |
·交流电沉积时间-电流曲线 | 第46-48页 |
·纳米线阵列膜的表征 | 第48-51页 |
·Ni纳米线阵列膜的性能研究 | 第51-57页 |
·Ni纳米线阵列膜的耐蚀性研究 | 第51-54页 |
·Ni纳米线阵列膜的光功能特性研究 | 第54-57页 |
结论 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-60页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第62页 |