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Ni纳米线阵列膜的制备与性能研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
引言第7-8页
1 文献综述第8-20页
   ·样膜法第8-9页
     ·样膜法的特点第8页
     ·AAO样模法的优点第8-9页
   ·基本原理第9-15页
     ·阳极氧化铝膜的研究进展第9-13页
     ·电化学沉积方法的发展历程第13-15页
   ·应用第15-19页
     ·阳极氧化膜在光学上的应用第15-16页
     ·多孔氧化铝膜在光电元件中的应用第16页
     ·多孔阳极氧化膜在膜分离中的应用第16-17页
     ·阳极氧化膜在磁学上的应用第17-18页
     ·多孔氧化铝膜在太阳能选择性吸收中的应用第18-19页
     ·在其他方面的应用第19页
   ·结束语第19-20页
2 试验部分第20-30页
   ·试验材料与试验药品、试验仪器及设备第20-21页
     ·试验材料第20页
     ·试验仪器及设备第20-21页
     ·试验药品第21页
   ·试验方法第21-28页
     ·铝表面预处理第22-24页
     ·多孔氧化铝膜的制备第24-26页
     ·阳极氧化膜的剥离第26-27页
     ·电沉积第27页
     ·阳极氧化铝膜与纳米线阵列膜的表征第27-28页
   ·Ni纳米线阵列膜的性能研究第28-30页
     ·Ni纳米线阵列膜的耐蚀性研究第28-29页
     ·Ni纳米线阵列膜的光功能特性研究第29-30页
3 试验结果及讨论第30-57页
   ·预处理的影响第30页
   ·阳极氧化膜的最佳制备工艺研究第30-46页
     ·搅拌的影响第30页
     ·铝阳极氧化膜的形成过程第30-32页
     ·阳极氧化铝膜的表征第32-37页
     ·正交实验结果分析第37-39页
     ·膜性能的影响因素第39-46页
     ·最佳工艺的选择第46页
   ·交流电沉积与纳米线阵列膜的表征第46-51页
     ·交流电沉积时间-电流曲线第46-48页
     ·纳米线阵列膜的表征第48-51页
   ·Ni纳米线阵列膜的性能研究第51-57页
     ·Ni纳米线阵列膜的耐蚀性研究第51-54页
     ·Ni纳米线阵列膜的光功能特性研究第54-57页
结论第57-58页
参考文献第58-60页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第60-61页
致谢第61-62页
大连理工大学学位论文版权使用授权书第62页

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