| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-17页 |
| ·微弧氧化技术及其发展 | 第7-12页 |
| ·发展历史及现状 | 第7-8页 |
| ·微弧氧化技术的基本原理 | 第8-10页 |
| ·微弧氧化技术及性能特点 | 第10-11页 |
| ·微弧氧化技术的应用领域 | 第11-12页 |
| ·电解液的种类、溶质元素的作用及电解液的选择 | 第12-14页 |
| ·电解液的种类及溶质元素的作用 | 第12-13页 |
| ·电解液的选择 | 第13-14页 |
| ·课题的目的及创新性 | 第14-15页 |
| ·本课题的研究内容及技术路线 | 第15-17页 |
| ·本课题的研究内容 | 第15页 |
| ·本课题研究的技术路线 | 第15-17页 |
| 2 实验设备与实验方法 | 第17-23页 |
| ·试样材料及制备 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化设备及电解液 | 第18-19页 |
| ·磨损试验 | 第19页 |
| ·附着力测试 | 第19-20页 |
| ·析测试设备及方法 | 第20-21页 |
| ·微弧氧化陶瓷层微观形貌分析 | 第21-23页 |
| 3 Na_2WO_4对铝合金微弧氧化过程及性能的影响 | 第23-33页 |
| ·Na_2WO_4 在氧化过程中的作用机理 | 第23-26页 |
| ·Na_2WO_4 对陶瓷膜性能的影响 | 第26-31页 |
| ·不同Na_2WO_4 浓度对耐磨性的影响 | 第26-29页 |
| ·在不同电流密度下Na_2WO_4 对膜层的影响 | 第29-31页 |
| ·Na_2WO_4 对起弧时能量和终电压的影响 | 第31-33页 |
| 4 NH_4VO_3 对微弧氧化过程的作用及陶瓷膜性能的影响 | 第33-44页 |
| ·NH_4VO_3 的物理化学性质 | 第33页 |
| ·NH_4VO_3 对微弧氧化过程的作用 | 第33-38页 |
| ·NH_4VO_3 对微弧氧化陶瓷膜的显色作用（显色机理） | 第33-36页 |
| ·NH_4VO_3 对能量参数的影响 | 第36-38页 |
| a NH_4VO_3对槽压的影响 | 第36-37页 |
| b NH_4VO_3 浓度对起弧电压、电流、时间和最终电压的影响 | 第37-38页 |
| ·NH_4VO_3 对陶瓷膜性能的影响 | 第38-42页 |
| ·NH_4VO_3 对陶瓷膜耐磨性的影响 | 第38-40页 |
| ·NH_4VO_3 对陶瓷膜附着力、膜厚的影响 | 第40-42页 |
| ·温度对黑度陶瓷膜粗糙度及附着力性能的影响 | 第42-44页 |
| 5 溶液的失效机理、维护及工艺的调整 | 第44-53页 |
| ·溶液的失效机理及影响因素 | 第44-49页 |
| ·溶液的失效机理 | 第44-45页 |
| ·Cu~(2+)、Fe~(3+)对溶液失效的影响 | 第45-46页 |
| ·溶液的pH 值及电导率（k）对溶液失效的影响 | 第46-49页 |
| ·槽液的维护 | 第49-50页 |
| ·PH 值及k 值的控制 | 第49-50页 |
| ·过滤控制 | 第50页 |
| ·工艺参数的调整 | 第50-51页 |
| ·能量参数的调整 | 第50-51页 |
| ·溶液温度的控制 | 第51页 |
| ·整个溶液的最终控制 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 附录1 作者在硕士论文期间发表的论文 | 第58页 |
