| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-32页 |
| §1.1 MEMS技术概述 | 第8-16页 |
| §1.1.1 引言 | 第8-11页 |
| §1.1.2 MEMS制造工艺 | 第11-16页 |
| §1.2 MOEMS的应用(MEMS和光学的结合) | 第16-26页 |
| §1.2.1 光通讯领域 | 第16-21页 |
| §1.2.2 微显示领域 | 第21-23页 |
| §1.2.3 空间光学领域 | 第23-24页 |
| §1.2.4 光源工程 | 第24-25页 |
| §1.2.5 光探测领域 | 第25-26页 |
| §1.3 本论文的主要研究内容和创新点 | 第26-29页 |
| §1.3.1 本论文的主要研究内容 | 第26-27页 |
| §1.3.2 创新意义 | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-32页 |
| 第二章 MOEMS调制器中的薄膜研究 | 第32-65页 |
| §2.1 用透过率测试曲线确定薄膜的光学常数和厚度 | 第32-44页 |
| §2.1.1 引言 | 第32-33页 |
| §2.1.2 光学模型 | 第33-36页 |
| §2.1.3 实验结果 | 第36-44页 |
| §2.1.4 结论 | 第44页 |
| §2.2 反应磁控溅射氮化硅和氮氧化硅薄膜的研究 | 第44-54页 |
| §2.2.1 氮化硅薄膜 | 第44-49页 |
| §2.2.2 氮氧化硅薄膜 | 第49-54页 |
| §2.3 薄膜初始应力的测试 | 第54-62页 |
| §2.3.1 应力测试的旋转结构 | 第55-60页 |
| §2.3.2 薄膜应力梯度 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 第三章 微腔MOEMS光学调制器的设计和实验 | 第65-103页 |
| §3.1 MOEMS Fabry-Perot滤光片的可调谐光学特性分析 | 第65-76页 |
| §3.1.1 引言 | 第65-67页 |
| §3.1.2 公式推导 | 第67-71页 |
| §3.1.3 数值验证 | 第71-72页 |
| §3.1.4 调谐灵敏性和误差分析 | 第72-75页 |
| §3.1.5 结论 | 第75-76页 |
| §3.2 MOEMS F-P滤光片的静电力耦合分析 | 第76-86页 |
| §3.2.1 引言 | 第76页 |
| §3.2.2 基本理论 | 第76-78页 |
| §3.2.3 自调节算法 | 第78-81页 |
| §3.2.4 不同结构的数值分析 | 第81-86页 |
| §3.3 诱导反射的MOEMS微显示元件设计 | 第86-93页 |
| §3.3.1 引言 | 第86-87页 |
| §3.3.2 基本结构 | 第87-88页 |
| §3.3.3 光学特性分析 | 第88-92页 |
| §3.3.4 结论 | 第92-93页 |
| §3.4 基于MOEMS的波长可调谐微腔有机发光二极管的设计 | 第93-98页 |
| §3.4.1 引言 | 第93页 |
| §3.4.2 原理 | 第93-95页 |
| §3.4.3 设计与模拟结果 | 第95-98页 |
| §3.4.4 结论 | 第98页 |
| §3.5 MOEMS微显示器件的工艺研究 | 第98-101页 |
| 参考文献 | 第101-103页 |
| 第四章 光栅光阀可调谐衰减器的设计制作和测试 | 第103-141页 |
| §4.1 光栅光阀的设计 | 第103-113页 |
| §4.1.1 光学特性分析 | 第103-106页 |
| §4.1.2 结构分析 | 第106-113页 |
| §4.2 光栅光阀的制作 | 第113-127页 |
| §4.2.1 表面微机械器件的主要失效机理研究 | 第113-120页 |
| §4.2.2 光栅光阀的制作工艺流程 | 第120-127页 |
| §4.3 光栅光阀的测试和结果讨论 | 第127-133页 |
| §4.4 SOI(Silicon On Insulator)工艺的探索 | 第133-139页 |
| §4.4.1 薄膜沉积 | 第134-135页 |
| §4.4.2 阳极键合实验 | 第135-136页 |
| §4.4.3 实验结果与讨论 | 第136-139页 |
| 参考文献 | 第139-141页 |
| 第五章 总结与展望 | 第141-144页 |
| 博士期间完成的论文 | 第144-146页 |
| 致谢 | 第146页 |
