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定向碳纳米管薄膜的热CVD制备及其场发射特性研究

中文摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 引言第9-20页
   ·碳纳米管简介第9-10页
   ·定向碳纳米管的制备第10-13页
     ·切片法第10页
     ·过滤法第10页
     ·化学气相沉积法第10-13页
       ·预置催化剂法制备定向碳纳米管第11-12页
       ·浮动催化剂法第12-13页
   ·碳纳米管的生长机理第13-17页
     ·电弧中碳纳米管的生长机理模型第13-14页
     ·激光蒸发法制备碳纳米管的生长机理第14页
     ·CVD 方法制备碳纳米管的生长机理第14-16页
       ·顶部生长机理第15页
       ·底部生长机理第15页
       ·碳帽机理(Yarmuleke 机理)第15-16页
       ·气相-液相-固相机理(VLS 机理)第16页
     ·CVD 法制备定向碳纳米管薄膜的取向机制第16-17页
       ·密度控制机制第16页
       ·速率控制机制第16-17页
       ·模板限制机制第17页
       ·等离子体诱导机制第17页
       ·取向生长碳纳米管与工艺参数的关系第17页
   ·定向碳纳米管薄膜的性能与应用第17-19页
     ·场发射性能第17-18页
     ·其他性能与应用第18-19页
   ·本文工作研究内容第19-20页
第二章 实验材料和试验方法第20-26页
   ·实验设备第20页
   ·实验材料第20-21页
   ·实验方法与流程第21-22页
     ·实验步骤第21页
     ·关于催化剂的引入第21-22页
   ·碳纳米管薄膜的表征第22-26页
     ·碳纳米管薄膜的SEM 表征第22页
     ·碳纳米管的TEM 表征第22-26页
第三章 定向碳纳米管的制备及其生长机理研究第26-37页
   ·碳纳米管薄膜的制备第26页
   ·结果与分析第26-31页
     ·碳纳米管薄膜的表征第27-30页
       ·浮动催化法制备碳纳米管薄膜的SEM 表征和TEM 表征第27-29页
       ·催化剂预处理衬底法制备碳纳米管薄膜的SEM 表征第29-30页
     ·浮动催化法制备定向碳纳米管生长机理的初步探讨第30-31页
   ·浮动催化法制备定向碳纳米管生长机理的论证第31-35页
     ·碳纳米管的表征第32-34页
     ·分析与讨论第34-35页
   ·本章小结第35-37页
第四章 双层定向碳纳米管的制备第37-45页
   ·双层定向碳纳米管薄膜的制备第37-38页
   ·结果与分析第38-44页
   ·本章小结第44-45页
第五章 碳纳米管样品的场发射研究第45-53页
   ·场致发射的基本原理第45-46页
   ·场致发射的评价指标第46-47页
   ·碳纳米管样品的场发射测试第47-52页
     ·场发射测试设备第47-48页
     ·定向碳纳米管薄膜的场发射特性第48-50页
     ·双层碳纳米管薄膜的场发射特性第50-52页
   ·本章小结第52-53页
第六章 结论第53-55页
致谢第55-56页
参考文献第56-61页
作者攻读硕士期间取得的成果第61页

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