氧化铝阵列模板制备及机理研究
| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-12页 |
| 1 绪论 | 第12-17页 |
| ·纳米模板合成法 | 第12-13页 |
| ·纳米模板的分类与制备方法 | 第13-15页 |
| ·多孔氧化铝模板 | 第13-14页 |
| ·二氧化硅模板 | 第14页 |
| ·高分子模板 | 第14页 |
| ·金属模板 | 第14-15页 |
| ·纳米压印平板印刷模板 | 第15页 |
| ·其他多孔模板材料 | 第15页 |
| ·AAO 模板法制备纳米组装体系 | 第15-16页 |
| ·AAO 模板法合成纳米组装体系的特点 | 第15-16页 |
| ·AAO 模板法的应用 | 第16页 |
| ·课题研究内容及研究意义 | 第16-17页 |
| ·研究内容 | 第16页 |
| ·研究意义 | 第16-17页 |
| 2 AAO 膜的结构与形成机理 | 第17-30页 |
| ·阳极氧化原理 | 第17-19页 |
| ·AAO 膜的成分与结构 | 第19-22页 |
| ·AAO 膜的组成成分 | 第19页 |
| ·AAO 膜的结构 | 第19-22页 |
| ·AAO 膜的形成机理 | 第22-28页 |
| ·三组形成理论 | 第22-23页 |
| ·五种形成模型 | 第23-27页 |
| ·氧化膜形成过程中的电流密度－时间变化曲线 | 第27-28页 |
| ·AAO 膜的动力学研究 | 第28-30页 |
| ·阻挡层的控制过程 | 第28页 |
| ·离子迁移过程 | 第28-29页 |
| ·多孔层的形成过程 | 第29-30页 |
| 3 AAO 膜的制备 | 第30-36页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验用品及仪器 | 第30-31页 |
| ·实验用品 | 第30-31页 |
| ·实验仪器 | 第31页 |
| ·实验过程 | 第31-36页 |
| ·退火处理 | 第31页 |
| ·表面除油 | 第31页 |
| ·刻蚀处理 | 第31-32页 |
| ·去活性处理 | 第32页 |
| ·电解抛光 | 第32页 |
| ·一次氧化 | 第32-33页 |
| ·去氧化层 | 第33页 |
| ·二次氧化 | 第33-34页 |
| ·膜的剥离 | 第34-35页 |
| ·氧化铝膜的通孔和扩孔 | 第35-36页 |
| 4 实验结果与分析 | 第36-55页 |
| ·工艺参数的摸索 | 第36-38页 |
| ·硫酸作电解液 | 第36-37页 |
| ·草酸作电解液 | 第37页 |
| ·两种不同电解液氧化电压的比较 | 第37-38页 |
| ·阳极氧化过程中的电流的变化 | 第38-39页 |
| ·工艺条件对氧化膜形成进程的影响 | 第39-42页 |
| ·氧化电压对氧化膜形成进程的影响 | 第40-41页 |
| ·电解液浓度对氧化膜形成进程的影响 | 第41-42页 |
| ·AAO 膜的X－Ray 衍射分析 | 第42-43页 |
| ·AAO 膜的外观评价 | 第43-44页 |
| ·AAO 膜的微观形貌 | 第44-47页 |
| ·影响阳极氧化铝膜结构的参数 | 第44-45页 |
| ·二次阳极氧化对氧化铝膜的影响和分析 | 第45-46页 |
| ·AAO 膜的电镜观察 | 第46-47页 |
| ·从AAO 膜的微观形貌分析氧化工艺的影响 | 第47-54页 |
| ·电解液种类对AAO 膜的影响 | 第47-49页 |
| ·电解液浓度对AAO 膜的影响 | 第49-50页 |
| ·阳极氧化电压对AAO 膜的影响 | 第50-52页 |
| ·氧化时间对AAO 膜的影响 | 第52-54页 |
| ·制备工艺对AAO 膜有序度的影响 | 第54-55页 |
| 5 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·主要实验结果 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 附录 | 第62-63页 |
| 独创性声明 | 第63页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第63页 |
