| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| §1.1 激光器的发展简史 | 第7-8页 |
| §1.2 激光基本理论 | 第8-11页 |
| §1.2.1 光的自发辐射、受激吸收和受激辐射 | 第8-9页 |
| §1.2.2 阈值条件 | 第9-11页 |
| 第二章 激光调Q技术 | 第11-21页 |
| §2.1 调Q原理 | 第11-14页 |
| §2.2 调Q技术 | 第14-21页 |
| §2.2.1 主动调Q技术 | 第14-17页 |
| §2.2.2 被动调Q技术 | 第17-21页 |
| 第三章 激光二极管泵浦的微片激光器 | 第21-31页 |
| §3.1 激光二极管泵浦技术 | 第21-26页 |
| §3.1.1 激光二极管泵浦技术的发展 | 第21-22页 |
| §3.1.2 激光二极管泵浦技术的优点 | 第22-23页 |
| §3.1.3 激光二极管的泵浦方式 | 第23-26页 |
| §3.2 激光二极管泵浦微片激光器的发展概况 | 第26-31页 |
| 第四章 LD泵浦的被动调Q微片激光器的实验及分析 | 第31-48页 |
| §4.1 实验一：LD泵浦的Cr~(4+),Nd~(3+)：YAG微片激光器 | 第31-43页 |
| §4.1.1 Nd~(3+)：YAG和Cr~(4+)：YAG晶体的特性 | 第31-34页 |
| §4.1.2 实验装置 | 第34-36页 |
| §4.1.3 实验步骤 | 第36-37页 |
| §4.1.4 首次实验结果 | 第37页 |
| §4.1.5 实验装置的改进 | 第37-38页 |
| §4.1.6 实验结果及分析 | 第38-42页 |
| §4.1.7 本实验结论 | 第42-43页 |
| §4.2 实验二 LD泵浦的Cr~(4+)：YAG-Nd~(3+)：YVO_4微片激光器 | 第43-47页 |
| §4.2.1 Nd~(3+)：YVO_4晶体的特性 | 第43-45页 |
| §4.2.2 实验步骤 | 第45页 |
| §4.2.3 实验结果 | 第45-47页 |
| §4.3 微片激光器的主要研究方向及发展前景 | 第47-48页 |
| 第五章 结论 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
