| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| §1．1 课题来源 | 第7页 |
| §1．2 国内外研究现状 | 第7-10页 |
| §1．2．1 设计理论方面的进展 | 第8-9页 |
| §1．2．2 制作工艺方面的进展 | 第9-10页 |
| §1．2．3 应用方面的进展 | 第10页 |
| §1．3 论文的主要研究工作及内容安排 | 第10-12页 |
| §1．3．1 主要研究工作 | 第10-11页 |
| §1．3．2 创新之处 | 第11页 |
| §1．3．3 论文具体章节安排 | 第11-12页 |
| 第二章 二元光学器件的设计 | 第12-26页 |
| §2．1 引言 | 第12页 |
| §2．2 二元光学器件的衍射效率 | 第12-14页 |
| §2．3 二元光学器件的评价函数 | 第14-16页 |
| §2．4 优化算法 | 第16-25页 |
| §2．4．1 利用遗传算法来设计二元光学器件 | 第16-22页 |
| §2．4．2 利用混合遗传算法来设计二元光学器件 | 第22-24页 |
| §2．4．3 设计结果比较 | 第24-25页 |
| §2．5 小结 | 第25-26页 |
| 第三章 基于空间光调制器的灰度掩模制作系统及制作工艺 | 第26-40页 |
| §3．1 引言 | 第26-27页 |
| §3．2 基于空间光调制器的灰度掩模制作系统 | 第27-31页 |
| §3．2．1 光源 | 第28页 |
| §3．2．2 空间光调制器 | 第28-29页 |
| §3．2．3 精缩投影物镜 | 第29-30页 |
| §3．2．4 二维气浮平台 | 第30-31页 |
| §3．3 灰度掩模图形的生成 | 第31-33页 |
| §3．4 制作工艺 | 第33-36页 |
| §3．4．1 曝光 | 第33-34页 |
| §3．4．2 显影 | 第34-35页 |
| §3．4．3 停影 | 第35页 |
| §3．4．4 定影 | 第35-36页 |
| §3．4．5 水洗 | 第36页 |
| §3．4．6 干燥 | 第36页 |
| §3．5 实验结果 | 第36-38页 |
| §3．6 系统的改进 | 第38-39页 |
| §3．6．1 灰度掩模并行激光直写系统 | 第38-39页 |
| §3．7 小结 | 第39-40页 |
| 第四章 二元光学器件的光刻及刻蚀 | 第40-49页 |
| §4．1 引言 | 第40页 |
| §4．2 光刻技术 | 第40-43页 |
| §4．2．1 涂胶 | 第40-41页 |
| §4．2．2 前烘焙 | 第41-42页 |
| §4．2．3 曝光 | 第42-43页 |
| §4．2．4 显影 | 第43页 |
| §4．2．5 漂洗 | 第43页 |
| §4．2．6 后烘焙 | 第43页 |
| §4．3 刻蚀技术 | 第43-48页 |
| §4．3．1 湿法刻蚀 | 第44页 |
| §4．3．2 反应离子刻蚀 | 第44-45页 |
| §4．3．3 反应离子刻蚀中几个工艺问题的研究 | 第45-46页 |
| §4．3．4 实验结果 | 第46-47页 |
| §4．3．5 两种方法的比较 | 第47页 |
| §4．3．6 一点思考 | 第47-48页 |
| §4．4 小结 | 第48-49页 |
| 第五章 总结和展望 | 第49-51页 |
| §5．1 总结 | 第49-50页 |
| §5．2 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 附录一 衍射屏对角谱的效应 | 第55-56页 |
| 附录二 基于空间光调制器的灰度掩模制作系统实物图 | 第56-57页 |
| 附录三 Dammann光栅演示图样 | 第57页 |