钛基钠米金刚石涂层场发射阴极工艺研究
| 第一章 场致发射显示器及显示技术简介 | 第1-22页 |
| ·主流显示器性能比较 | 第8-12页 |
| ·阴极射线管显示器(CRT) | 第8-9页 |
| ·平板显示器(FPD) | 第9-12页 |
| ·场致发射显示器的研制历史与现状 | 第12-13页 |
| ·场致发射显示器基本结构和原理 | 第13-19页 |
| ·场发射原理 | 第13-15页 |
| ·场发射阴极材料 | 第15-16页 |
| ·场发射阴极结构 | 第16-19页 |
| ·问题的提出和本文的主要工作 | 第19-22页 |
| 第二章 金刚石场发射机理 | 第22-34页 |
| ·金刚石场发射的基本模型 | 第22-24页 |
| ·电子亲和势 | 第22-23页 |
| ·表面凸起 | 第23页 |
| ·表面态 | 第23页 |
| ·缺陷和杂质能级 | 第23页 |
| ·电介质击穿模型 | 第23-24页 |
| ·实验设计的理论依据 | 第24-34页 |
| ·阴极材料的选择 | 第24-28页 |
| ·衬底材料的选择 | 第28-29页 |
| ·金属基金刚石阴极场发射模型 | 第29-31页 |
| ·实验关键工艺机理 | 第31-34页 |
| 第三章 场发射阴极工艺设计 | 第34-38页 |
| ·金刚石纳米颗粒尺寸的选择 | 第34页 |
| ·金属的表面处理 | 第34-35页 |
| ·金刚石的超声分散 | 第35-36页 |
| ·金刚石纳米粉的涂覆 | 第36页 |
| ·金刚石与钛基底的热粘接 | 第36-37页 |
| ·氢等离子体处理 | 第37-38页 |
| 第四章 实验设备及实验准备工作 | 第38-47页 |
| ·实验及检测设备 | 第38-41页 |
| ·真空退火系统 | 第38-39页 |
| ·场发射测试系统 | 第39-41页 |
| ·其他测试设备 | 第41页 |
| ·实验准备工作 | 第41-47页 |
| ·退火系统的预处理 | 第41-43页 |
| ·原材料的处理和分析 | 第43-47页 |
| 第五章 实验及分析 | 第47-69页 |
| ·基体Ti的场发射 | 第47页 |
| ·金刚石纳米粉的涂覆及其场发射性能 | 第47-50页 |
| ·薄膜的涂覆 | 第47-49页 |
| ·涂膜后样品的场发射性能 | 第49-50页 |
| ·金刚石与金属钛的热粘接 | 第50-54页 |
| ·热处理温度点的确定 | 第50-51页 |
| ·实验 | 第51-52页 |
| ·热处理温度对热粘接及场发射性能的影响 | 第52-54页 |
| ·金刚石含量对场发射性能的影响 | 第54-55页 |
| ·氢等离子体处理及对场发射性能的影响 | 第55-58页 |
| ·薄膜涂覆方法的改进 | 第58-60页 |
| ·溶剂配方的改进 | 第58-59页 |
| ·不同配方的超声分散均匀涂膜 | 第59-60页 |
| ·不同方法涂覆薄膜的场发射性能比较 | 第60-65页 |
| ·优化的典型工艺 | 第65页 |
| ·典型样品场发射性能分析 | 第65-68页 |
| ·发光测试 | 第68-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-71页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
