纳米氧化铜直接沉淀法制备工艺及表面改性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 引言 | 第8-11页 |
| 第一章 综述 | 第11-26页 |
| ·纳米氧化铜的性质、用途及国内外研究现状 | 第11-18页 |
| ·纳米粒子的基本物理效应 | 第11-13页 |
| ·纳米氧化铜的性质和用途 | 第13-16页 |
| ·纳米氧化铜的国内外研究现状 | 第16-18页 |
| ·纳米粉体的制备方法 | 第18-25页 |
| ·沉淀法 | 第19-21页 |
| ·微乳液法 | 第21页 |
| ·水热法 | 第21-22页 |
| ·醇热法 | 第22页 |
| ·固相反应法 | 第22-23页 |
| ·喷雾热解法 | 第23页 |
| ·激光蒸凝法 | 第23-24页 |
| ·微波沸腾回流法 | 第24页 |
| ·电化学法 | 第24-25页 |
| ·立题依据 | 第25-26页 |
| 第二章 直接沉淀法制备纳米氧化铜的过程理论分析 | 第26-37页 |
| ·沉淀法制备纳米粉体的基本过程分析 | 第26-27页 |
| ·沉淀反应过程的理论分析 | 第27-31页 |
| ·纳米粒子成核的热力学分析 | 第27-30页 |
| ·纳米粒子成核的动力学分析 | 第30页 |
| ·纳米粒子的生长速率分析 | 第30-31页 |
| ·沉淀物的过滤、洗涤、干燥与焙烧 | 第31-33页 |
| ·纳米粉体制备过程的团聚及其控制 | 第33-36页 |
| ·纳米粉体的团聚 | 第33-34页 |
| ·沉淀反应过程团聚的控制 | 第34-35页 |
| ·干燥过程团聚的控制 | 第35页 |
| ·焙烧过程团聚的控制 | 第35-36页 |
| ·纳米粉体制备工艺技术控制要点 | 第36-37页 |
| 第三章 纳米氧化铜粉体制备试验研究 | 第37-49页 |
| ·试剂与仪器设备 | 第37-38页 |
| ·制备试验工艺流程及方案 | 第38-39页 |
| ·纳米氧化铜制备的工艺过程及流程 | 第38-39页 |
| ·试验方案 | 第39页 |
| ·产物的分析测试与表征 | 第39-41页 |
| ·试验结果与讨论 | 第41-49页 |
| ·沉淀反应过程的单因素试验 | 第41-45页 |
| ·沉淀反应过程的正交试验 | 第45-46页 |
| ·前驱体焙烧试验 | 第46-49页 |
| 第四章 纳米氧化铜粉体表面改性试验研究 | 第49-61页 |
| ·纳米氧化铜粉体表面改性及方法的选择 | 第49页 |
| ·试剂及仪器设备 | 第49-50页 |
| ·试验方案及步骤 | 第50-51页 |
| ·纳米氧化铜表面改性的试验步骤 | 第50-51页 |
| ·试验方案 | 第51页 |
| ·改性产品的分析测试与表征 | 第51-52页 |
| ·试验结果与讨论 | 第52-61页 |
| ·硬脂酸钠改性试验 | 第52-55页 |
| ·十二烷基苯磺酸钠改性试验 | 第55-58页 |
| ·改性产品的扫描电镜分析 | 第58-61页 |
| 第五章 结论与建议 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| ·建议 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 谢辞 | 第69页 |
