基于双结构超低表面反射率单晶硅太阳电池制备的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-24页 |
| ·单晶硅太阳电池制造工艺 | 第10-15页 |
| ·清洗制绒 | 第11-12页 |
| ·扩散pn结的形成 | 第12页 |
| ·刻蚀去边 | 第12页 |
| ·减反射膜制作 | 第12-13页 |
| ·电极的制作 | 第13-15页 |
| ·单晶硅太阳电池的表面织构技术 | 第15-22页 |
| ·陷光结构 | 第15页 |
| ·典型单晶硅太阳电池绒面原理 | 第15-16页 |
| ·单晶硅太阳电池的金字塔绒面制备例证 | 第16-22页 |
| ·本文研究的内容及意义 | 第22-23页 |
| 本章小结 | 第23-24页 |
| 2. 样品制备与表征设备 | 第24-32页 |
| ·样品制备设备 | 第24-28页 |
| ·扩散炉 | 第24-25页 |
| ·等离子刻蚀机 | 第25-26页 |
| ·网印刷机 | 第26-28页 |
| ·烧结炉 | 第28页 |
| ·样品表征设备 | 第28-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第28-30页 |
| ·积分球式分光光度计 | 第30-31页 |
| ·Berger测试仪 | 第31页 |
| 本章小结 | 第31-32页 |
| 3. 单晶硅纳米结构的制备 | 第32-35页 |
| ·纳米孔的制备 | 第32页 |
| ·纳米线的制备 | 第32-33页 |
| ·热蒸发沉积银刻蚀纳米线 | 第32-33页 |
| ·利用磁控溅射镀银在金字塔绒面上制备纳米线 | 第33页 |
| ·利用光电化学刻蚀方法制备纳米结构 | 第33页 |
| ·大面积硅纳米线阵列的制备 | 第33-34页 |
| 本章小结 | 第34-35页 |
| 4. 单晶硅双结构的制备 | 第35-44页 |
| ·单晶硅双结构制备 | 第35-36页 |
| ·单晶硅绒面金字塔的制备 | 第35页 |
| ·单晶硅双结构的制备 | 第35-36页 |
| ·测试与分析 | 第36-43页 |
| 本章小结 | 第43-44页 |
| 5. 单晶硅太阳电池制备 | 第44-48页 |
| ·单晶硅太阳电池的制备 | 第44-45页 |
| ·单晶硅太阳电池的测试与分析 | 第45-46页 |
| ·改善电极提高效率 | 第46-47页 |
| 本章小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
