黄铜和碳钢表面硅烷膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-25页 |
| ·硅烷偶联剂简介 | 第10-11页 |
| ·化学键合理论 | 第11-12页 |
| ·金属表而硅烷化工艺的影响因素 | 第12-17页 |
| ·硅烷种类的影响 | 第13-14页 |
| ·硅烷溶液的浓度 | 第14页 |
| ·硅烷溶液的pH值 | 第14-15页 |
| ·硅烷溶液的水解时间 | 第15-16页 |
| ·金属表面前处理状态 | 第16-17页 |
| ·成膜时间 | 第17页 |
| ·固化温度及时间 | 第17页 |
| ·硅烷膜结构及其性能的表征 | 第17-21页 |
| ·电化学测试方法 | 第18-19页 |
| ·表面分析 | 第19-20页 |
| ·腐蚀试验 | 第20-21页 |
| ·硅烷化处理工艺的发展现状 | 第21-22页 |
| ·硅烷膜的电化学沉积 | 第21页 |
| ·纳米粒子掺杂改性技术 | 第21-22页 |
| ·硅烷化处理工艺的不足 | 第22-24页 |
| ·论文选题的意义及研究内容 | 第24-25页 |
| 2 黄铜表面硅烷膜的制备及性能 | 第25-49页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·实验材料与试剂 | 第25-26页 |
| ·黄铜表面硅烷膜的制备 | 第26页 |
| ·硅烷溶液的配制 | 第26页 |
| ·基底的预处理 | 第26页 |
| ·硅烷膜的沉积 | 第26页 |
| ·黄铜表面硅烷膜的表征 | 第26-28页 |
| ·电化学极化曲线测试 | 第26-27页 |
| ·电化学交流阻抗谱 | 第27页 |
| ·接触角测试 | 第27页 |
| ·傅里叶红外光谱测试(FTIR) | 第27页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第27页 |
| ·SEM和EDX表征 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-47页 |
| ·硅烷试剂种类的影响 | 第28-32页 |
| ·硅烷浓度的影响 | 第32-37页 |
| ·吸附模型的验证及讨论 | 第37-39页 |
| ·PropS-SH硅烷膜的工艺化研究 | 第39-43页 |
| ·成膜与耐蚀机理讨论 | 第43-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 3 碳钢表面硅烷膜的制备及性能 | 第49-63页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验材料与试剂 | 第49页 |
| ·碳钢表而硅烷膜的制备 | 第49-50页 |
| ·硅烷溶液的配制 | 第49-50页 |
| ·基底的表面预处理 | 第50页 |
| ·硅烷膜的沉积 | 第50页 |
| ·磷化膜的制备 | 第50-51页 |
| ·碳钢表面硅烷膜的表征 | 第51页 |
| ·电化学极化曲线测试 | 第51页 |
| ·电化学交流阻抗 | 第51页 |
| ·傅里叶红外光谱测试 | 第51页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)和EDX | 第51页 |
| ·浸泡实验 | 第51页 |
| ·硫酸铜点滴实验 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-62页 |
| ·硅烷试剂种类的影响 | 第51-54页 |
| ·PropS-SH硅烷膜的SEM和EDX分析 | 第54-56页 |
| ·PropS-SH硅烷膜耐蚀机理分析 | 第56-59页 |
| ·PropS-SH硅烷膜与磷化膜耐蚀性的比较 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 4 结论和展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63页 |
| ·存在的问题与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
