钛合金等离子体电解氧化过程中陶瓷膜阻抗特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-28页 |
| ·等离子体电解氧化技术 | 第14-22页 |
| ·等离子体电解氧化技术的发展历程 | 第14-16页 |
| ·等离子体电解氧化的过程 | 第16-19页 |
| ·等离子体电解氧化电源 | 第19页 |
| ·等离子体电解氧化电解液 | 第19-20页 |
| ·等离子体电解氧化在钛合金表面改性中的应用 | 第20-22页 |
| ·等离子体电解氧化机理的研究现状 | 第22-24页 |
| ·电化学阻抗谱技术 | 第24-26页 |
| ·EIS技术的应用 | 第24-25页 |
| ·EIS在PEO陶瓷膜研究中的应用现状 | 第25-26页 |
| ·选题的目的意义及主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第28-34页 |
| ·试验材料 | 第28页 |
| ·实验设备 | 第28-30页 |
| ·等离子体电解氧化直流电源 | 第28页 |
| ·等离子体电解氧化单向脉冲电源 | 第28-29页 |
| ·等离子体电解氧化装置 | 第29-30页 |
| ·研究方法 | 第30-34页 |
| ·陶瓷膜的电化学测试 | 第30-31页 |
| ·组成与结构分析 | 第31页 |
| ·工作液分析 | 第31-32页 |
| ·电源参数的测定 | 第32-34页 |
| 第3章 低腐蚀速率下动电位极化测试方法的改进 | 第34-50页 |
| ·理论分析 | 第34-37页 |
| ·基体TC4 的动电位极化测试 | 第37-46页 |
| ·开路电位 | 第37-38页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第38-39页 |
| ·动电位极化曲线 | 第39-43页 |
| ·充电电流干扰的消除 | 第43-46页 |
| ·PEO陶瓷膜的动电位极化测试 | 第46-49页 |
| ·PEO陶瓷膜在NaCl溶液中的动电位极化 | 第46-47页 |
| ·PEO陶瓷膜在工作液中的动电位极化测试 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 直流模式下陶瓷膜的结构及阻抗特性 | 第50-71页 |
| ·陶瓷膜的制备与表征 | 第50-54页 |
| ·槽压时间曲线 | 第50-51页 |
| ·陶瓷膜的形貌分析 | 第51-53页 |
| ·陶瓷膜的元素与相组成分析 | 第53-54页 |
| ·电解液的组成分析 | 第54-56页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的EIS测试 | 第56-63页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的开路电位 | 第56-57页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的电化学阻抗谱 | 第57-61页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的极化曲线 | 第61-63页 |
| ·电流密度对陶瓷膜结构及阻抗特性的影响 | 第63-67页 |
| ·电流密度对陶瓷膜结构的影响 | 第63-66页 |
| ·电流密度对陶瓷膜阻抗特性的影响 | 第66-67页 |
| ·陶瓷膜的耐蚀性能 | 第67-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第5章 单向脉冲下陶瓷膜的结构及阻抗特性 | 第71-102页 |
| ·陶瓷膜的制备与表征 | 第71-75页 |
| ·槽压时间曲线 | 第71-72页 |
| ·陶瓷膜的形貌分析 | 第72-74页 |
| ·陶瓷膜的元素与相组成分析 | 第74-75页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的EIS测试 | 第75-80页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的开路电位 | 第75-76页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的电化学阻抗谱 | 第76-79页 |
| ·陶瓷膜在工作液中的极化曲线 | 第79-80页 |
| ·峰值电流密度对陶瓷膜结构及阻抗特性的影响 | 第80-86页 |
| ·峰值电流密度对陶瓷膜结构的影响 | 第80-83页 |
| ·峰值电流密度对陶瓷膜阻抗特性的影响 | 第83-86页 |
| ·电源频率对陶瓷膜结构及阻抗特性的影响 | 第86-92页 |
| ·电源频率对陶瓷膜结构的影响 | 第86-89页 |
| ·电源频率对陶瓷膜阻抗特性的影响 | 第89-92页 |
| ·占空比对陶瓷膜结构及阻抗特性的影响 | 第92-97页 |
| ·占空比对陶瓷膜结构的影响 | 第92-95页 |
| ·占空比对陶瓷膜阻抗特性的影响 | 第95-97页 |
| ·陶瓷膜的耐蚀性能 | 第97-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 第6章 PEO过程中动态阻抗的在线分析 | 第102-123页 |
| ·等效电路模型的建立 | 第103-109页 |
| ·PEO反应初期的电源波形分析 | 第103-106页 |
| ·PEO反应后期的电源波形分析 | 第106-109页 |
| ·不同电源参数下的PEO反应过程中的动态阻抗 | 第109-120页 |
| ·动态阻抗随处理电压的变化 | 第109-113页 |
| ·电流密度对动态阻抗的影响 | 第113-116页 |
| ·电源频率对动态阻抗的影响 | 第116-118页 |
| ·占空比对动态阻抗的影响 | 第118-120页 |
| ·PEO过程的监测 | 第120-121页 |
| ·本章小结 | 第121-123页 |
| 结论 | 第123-125页 |
| 参考文献 | 第125-137页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第137-139页 |
| 致谢 | 第139-140页 |
| 个人简历 | 第140页 |
