| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 概论 | 第7-17页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·超细氧化铝的性质与应用 | 第7-9页 |
| ·超细氧化铝在陶瓷行业的应用 | 第8页 |
| ·超细氧化铝在生物医学领域的应用 | 第8页 |
| ·超细氧化铝在半导体领域的应用 | 第8页 |
| ·超细氧化铝在表面防护层领域的应用 | 第8-9页 |
| ·超细氧化铝在光学领域的应用 | 第9页 |
| ·超细氧化铝粉末的制备方法 | 第9-13页 |
| ·气相法 | 第9-10页 |
| ·固相法 | 第10-11页 |
| ·液相法 | 第11-13页 |
| ·超细氧化铝的团聚产生机理以及消除方法 | 第13-15页 |
| ·团聚的产生机理 | 第13-14页 |
| ·硬团聚的消除方法 | 第14-15页 |
| ·课题的提出 | 第15-17页 |
| 第二章 实验部分 | 第17-22页 |
| ·实验原料及其分析 | 第17-19页 |
| ·实验原料 | 第17页 |
| ·工业氢氧化铝中二氧化硅的测定 | 第17-19页 |
| ·主要仪器设备 | 第19页 |
| ·实验步骤与流程图 | 第19-20页 |
| ·机理分析 | 第20-21页 |
| ·铝酸钠溶液的稳定性 | 第20页 |
| ·沉淀反应机理分析 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 超细氧化铝的制备 | 第22-49页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·制备工艺研究 | 第22-29页 |
| ·分散剂的选择 | 第22-23页 |
| ·沉淀剂的选择 | 第23页 |
| ·前驱体的TG-DTA 图、XRD 图和粒径分布图 | 第23-27页 |
| ·沉淀剂加入方式的影响 | 第27-29页 |
| ·各因素对氧化铝平均粒径的影响 | 第29-34页 |
| ·体系pH 值的影响 | 第29-30页 |
| ·反应温度的影响 | 第30-31页 |
| ·反应物浓度的影响 | 第31-32页 |
| ·分散剂添加量的影响 | 第32-33页 |
| ·反应时间的影响 | 第33-34页 |
| ·超细氧化铝粉末制备的正交实验设计 | 第34-36页 |
| ·正交实验设计 | 第34-35页 |
| ·正交实验结果的表征 | 第35页 |
| ·实验结果 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-47页 |
| ·粉末平均粒径的结果与讨论 | 第36-39页 |
| ·氧化铝粉末收率的结果与讨论 | 第39-42页 |
| ·粉末松装密度的结果与讨论 | 第42-46页 |
| ·综合分析 | 第46-47页 |
| ·纯度分析 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 干燥条件对粉体团聚的影响 | 第49-54页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验原料及仪器 | 第49-50页 |
| ·主要步骤 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录A 粉体材料的表征方法 | 第61-64页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第64-65页 |