| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·类金刚石薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| ·弧光放电及磁过滤阴极电弧沉积法 | 第11页 |
| ·离子束沉积法 | 第11页 |
| ·脉冲激光沉积方法 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射沉积方法 | 第12页 |
| ·直流辉光放电等离子体化学气相沉积 | 第12页 |
| ·射频辉光放电等离子体化学气相沉积 | 第12页 |
| ·类金刚石薄膜的性能 | 第12-13页 |
| ·类金刚石薄膜的应用状况 | 第13-15页 |
| ·类金刚石薄膜的研究现状 | 第15-16页 |
| ·本文研究的目的、意义及研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 类金刚石薄膜的制备及表征手段 | 第17-30页 |
| ·磁控溅射原理 | 第17-18页 |
| ·类金刚石薄膜及掺氮类金刚石薄膜的制备 | 第18-20页 |
| ·实验设备 | 第18-19页 |
| ·实验样品的制备 | 第19-20页 |
| ·类金刚石薄膜及掺氮类金刚石薄膜的表征方法 | 第20-29页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第21-22页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
| ·椭偏仪测试 | 第23页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第23-25页 |
| ·傅立叶红外光谱(FTIR) | 第25-26页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第26-27页 |
| ·紫外-可见光光谱(UV-VIS) | 第27-29页 |
| ·绝缘电阻测试(Insulation Resistance Tester) | 第29页 |
| ·西林电桥 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 掺氮DLC薄膜的结构及光电性能研究 | 第30-45页 |
| ·DLC:N薄膜的表面形貌分析 | 第30-31页 |
| ·DLC:N薄膜的X射线衍射光谱分析 | 第31页 |
| ·DLC及DLC:N薄膜的拉曼光谱(Raman)分析 | 第31-34页 |
| ·DLC:N薄膜的傅立叶红外光谱(FTIR)分析 | 第34-35页 |
| ·DLC:N薄膜的X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第35-37页 |
| ·类金刚石薄膜的光学性能 | 第37-41页 |
| ·类金刚石薄膜的电学性能 | 第41-44页 |
| ·氮掺杂对类金刚石薄膜绝缘电阻的影响 | 第41-42页 |
| ·氮掺杂对薄膜介电常数的影响 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 溅射工艺条件对薄膜结构及性能的影响 | 第45-53页 |
| ·溅射功率对DLC:N薄膜的结构与性能的影响 | 第45-48页 |
| ·溅射功率对DLC:N薄膜表面形貌影响 | 第45-46页 |
| ·溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第46-47页 |
| ·溅射功率对DLC:N薄膜绝缘电阻的影响 | 第47页 |
| ·溅射功率对DLC:N薄膜光学带隙的影响 | 第47-48页 |
| ·基底温度对DLC:N薄膜的结构与性能的影响 | 第48-52页 |
| ·基底温度对DLC:N薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·基底温度对DLC:N薄膜的Raman光谱的影响 | 第49页 |
| ·基底温度对DLC:N薄膜介电常数的影响 | 第49-50页 |
| ·基底温度对DLC:N薄膜的透射光谱及光学带隙的影响 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53页 |
| ·展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第61页 |
