摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-15页 |
第一章 绪论 | 第15-34页 |
·引言 | 第15页 |
·纳米荧光材料 | 第15-17页 |
·定义 | 第15页 |
·分类 | 第15-17页 |
·稀土纳米荧光材料的研究概述 | 第17-27页 |
·稀土离子的能级结构 | 第17-18页 |
·稀土纳米荧光材料的发光原理 | 第18-20页 |
·稀土纳米荧光材料的主要特性 | 第20-21页 |
·稀土纳米荧光材料的合成方法 | 第21-24页 |
·稀土纳米荧光材料的特点及应用 | 第24-27页 |
·指纹显现研究进展 | 第27-32页 |
·指纹及其指纹鉴定 | 第27页 |
·指纹成分 | 第27-28页 |
·指纹显现方法介绍 | 第28-32页 |
·本论文研究目的和主要内容 | 第32-34页 |
·本论文研究目的 | 第33页 |
·本论文研究主要内容 | 第33-34页 |
第二章 实验部分 | 第34-41页 |
·实验试剂及仪器 | 第34-35页 |
·实验试剂 | 第34-35页 |
·实验设备及分析仪器 | 第35页 |
·实验内容 | 第35-41页 |
·实验原理 | 第35页 |
·实验步骤 | 第35-40页 |
·稀土纳米荧光粒子的表征 | 第40-41页 |
第三章 YVO_4:Eu纳米粒子的合成及其在指纹显现中的应用 | 第41-55页 |
·YVO_4:Eu纳米粒子的研究 | 第41-47页 |
·不同合成原料的选择 | 第41-42页 |
·光谱特性表征 | 第42-45页 |
·XRD表征 | 第45-46页 |
·TEM表征 | 第46-47页 |
·YVO_4:Eu的表面修饰及其在指纹显现中的应用 | 第47-53页 |
·NPs-X的合成 | 第48-51页 |
·NPs/SiO_2的合成 | 第51-53页 |
·YVO_4:Eu的荧光量子产率 | 第53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第四章 LaPO_4:RE(RE=Ce,Tb)的合成及其在指纹显现中的应用 | 第55-68页 |
·LaPO_4:Ce,Tb纳米粒子的研究 | 第55-65页 |
·光谱特性表征 | 第55-60页 |
·XRD表征 | 第60页 |
·TEM表征 | 第60-61页 |
·LaPO_4:Ce,Tb的表面修饰及其在指纹显现中的应用 | 第61-64页 |
·LaPO_4:Ce,Tb的荧光量子产率 | 第64-65页 |
·LaPO_4:Ce纳米粒子的研究 | 第65-66页 |
·XRD表征 | 第65-66页 |
·TEM表征 | 第66页 |
·本章小结 | 第66-68页 |
第五章 与模拟指纹物质相互作用的研究 | 第68-74页 |
·模拟指纹物质的荧光光谱图 | 第68-69页 |
·半导体量子点CdSe与模拟指纹成分的相互作用 | 第69-70页 |
·CdSe量子点与模拟氨基酸的作用 | 第69-70页 |
·CdSe量子点与模拟油脂的作用 | 第70页 |
·稀土复合纳米荧光粒子与模拟指纹成分的相互作用 | 第70-72页 |
·Y_(0.7)VO_4:Eu_(0.3)溶胶与模拟指纹成分的作用 | 第71页 |
·Y_(0.7)VO_4:Eu_(0.3)-EDTA-2Na与模拟指纹成分的作用 | 第71-72页 |
·本章小结 | 第72-74页 |
第六章 结论 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第82-83页 |
导师与作者介绍 | 第83-84页 |
北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第84-85页 |