摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章绪论 | 第10-31页 |
1.1引言 | 第10-11页 |
1.2光催化分解水制氢技术的研究概况 | 第11-14页 |
1.2.1光催化分解水制氢技术及基本原理 | 第11-12页 |
1.2.2无机光催化制氢材料 | 第12-13页 |
1.2.3有机光催化制氢材料 | 第13-14页 |
1.3共轭聚合物在光催化制氢中的应用 | 第14-26页 |
1.3.1共轭聚合物简介 | 第14-15页 |
1.3.2线性共轭聚合物类光催化剂 | 第15-17页 |
1.3.3共轭微孔聚合物类光催化剂 | 第17-21页 |
1.3.4共价有机框架类光催化剂 | 第21-22页 |
1.3.5共价三嗪框架类聚合物光催化剂 | 第22-24页 |
1.3.6水醇溶共轭聚合物类光催化剂 | 第24-26页 |
1.4共轭聚合物光催化剂及其结构与性能关系 | 第26-29页 |
1.4.1共轭聚合物光催化剂常见构筑单元 | 第26页 |
1.4.2苯并噻二唑单元共轭聚合物光催化剂及其结构与性能关系 | 第26-29页 |
1.5本论文的研究内容及创新之处 | 第29-31页 |
1.5.1本论文的研究内容 | 第29-30页 |
1.5.2本论文的创新之处 | 第30-31页 |
第二章取代基对水醇溶共轭聚合物光催化制氢性能影响研究 | 第31-46页 |
2.1引言 | 第31-32页 |
2.2实验部分 | 第32-38页 |
2.2.1原料与试剂 | 第32页 |
2.2.2材料表征设备与仪器 | 第32-34页 |
2.2.3单体和聚合物材料的合成 | 第34-38页 |
2.3结果与讨论 | 第38-45页 |
2.3.1聚合物的合成与表征 | 第38-39页 |
2.3.2聚合物的UV-vis图谱 | 第39-40页 |
2.3.3聚合物的电化学测试 | 第40页 |
2.3.4聚合物的UPS测试 | 第40-41页 |
2.3.5聚合物的光催化制氢测试 | 第41-42页 |
2.3.6聚合物的ΔGH泛函理论计算 | 第42-43页 |
2.3.7聚合物的偶极矩 | 第43页 |
2.3.8聚合物的电化学阻抗测试 | 第43-44页 |
2.3.9聚合物的飞秒瞬态吸收图谱(fs-TAS)测试 | 第44-45页 |
2.4本章小结 | 第45-46页 |
第三章取代基对窄带隙水醇溶共轭聚合物光催化制氢性能影响研究 | 第46-58页 |
3.1引言 | 第46页 |
3.2实验部分 | 第46-52页 |
3.2.1原料与试剂 | 第46-47页 |
3.2.2材料表征设备与仪器及其测试方法 | 第47页 |
3.2.3单体和聚合物材料的合成 | 第47-52页 |
3.3结果与讨论 | 第52-57页 |
3.3.1聚合物的合成与表征 | 第52页 |
3.3.2聚合物的UV-vis图谱 | 第52-53页 |
3.3.3聚合物的电化学测试 | 第53-54页 |
3.3.4聚合物的UPS测试 | 第54-55页 |
3.3.5聚合物的光催化制氢性能 | 第55页 |
3.3.6聚合物的氢结合自由能(ΔGH)泛函理论计算 | 第55-56页 |
3.3.7聚合物的偶极矩 | 第56-57页 |
3.4本章小结 | 第57-58页 |
第四章含氮杂环类水醇溶共轭聚合物及其光催化制氢性能研究 | 第58-69页 |
4.1引言 | 第58-59页 |
4.2实验部分 | 第59-62页 |
4.2.1原料与试剂 | 第59-60页 |
4.2.2材料表征设备与仪器及其测试方法 | 第60页 |
4.2.3单体及聚合物的合成 | 第60-62页 |
4.3结果与讨论 | 第62-68页 |
4.3.1聚合物的合成与表征 | 第62-63页 |
4.3.2聚合物的密度泛函理论计算 | 第63-64页 |
4.3.3聚合物的UV-Vis吸收图谱 | 第64页 |
4.3.4聚合物的电化学性质和电子能级结构 | 第64-65页 |
4.3.5聚合物的透射电子显微镜测试 | 第65-66页 |
4.3.6聚合物的光催化制氢性能 | 第66-67页 |
4.3.7聚合物的光电流响应 | 第67-68页 |
4.4本章小结 | 第68-69页 |
结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-81页 |
附录 | 第81-87页 |
一、本论文工作对应单体的~1H-NMR谱图 | 第81-84页 |
二、本论文工作对应单体的13C-NMR谱图 | 第84-87页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第87-88页 |
致谢 | 第88-89页 |
附件 | 第89页 |