新型水基DBD系统的研制及在废水处理中的应用研究
致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 研究背景与意义 | 第10-11页 |
1.2 有机废水处理技术 | 第11-16页 |
1.2.1 生物处理技术 | 第11页 |
1.2.2 物化处理技术 | 第11-13页 |
1.2.3 高级氧化技术 | 第13-14页 |
1.2.4 低温等离子体处理技术 | 第14-16页 |
1.3 介质阻挡放电 | 第16-24页 |
1.3.1 介质阻挡放电概述 | 第16-17页 |
1.3.2 介质阻挡放电结构 | 第17-19页 |
1.3.3 气体击穿理论概述 | 第19-22页 |
1.3.4 介质阻挡放电模式 | 第22-24页 |
1.4 论文结构 | 第24-26页 |
第二章 水基介质阻挡放电系统的搭建及参数优化 | 第26-40页 |
2.1 水基介质阻挡放电系统整体结构 | 第26页 |
2.2 系统硬件设计与实现 | 第26-30页 |
2.2.1 等离子体电源 | 第27-28页 |
2.2.2 调压器 | 第28页 |
2.2.3 光谱仪 | 第28-29页 |
2.2.4 数字示波器 | 第29-30页 |
2.3 系统软件 | 第30-33页 |
2.4 系统参数优化 | 第33-37页 |
2.4.1 外加电压的频率和放电之间的关系 | 第33-35页 |
2.4.2 气体流速对放电的影响 | 第35-36页 |
2.4.3 针水间距对放电的影响 | 第36-37页 |
2.5 电学表征 | 第37-38页 |
2.6 本章小结 | 第38-40页 |
第三章 水基介质阻挡放电模式研究 | 第40-62页 |
3.1 电学分析方法 | 第40-44页 |
3.2 水基DBD放电模式初步分类 | 第44-50页 |
3.3 三种放电模式的具体分析 | 第50-60页 |
3.3.1 水基Ⅰ型放电 | 第50-57页 |
3.3.2 水基Ⅱ型放电 | 第57-58页 |
3.3.3 水基Ⅲ型放电 | 第58-60页 |
3.4 本章小结 | 第60-62页 |
第四章 水基介质阻挡放电在印染废水中的应用研究 | 第62-78页 |
4.1 研究反应时间对甲基橙降解的影响 | 第62-66页 |
4.2 研究初始电导率对甲基橙降解的影响 | 第66-68页 |
4.3 研究甲基橙初始浓度对降解的影响 | 第68-70页 |
4.4 超高浓度下甲基橙降解分析 | 第70-71页 |
4.5 降解速率影响因素的研究 | 第71-74页 |
4.6 水基DBD降解机理的研究 | 第74-77页 |
4.7 本章小结 | 第77-78页 |
第五章 总结与展望 | 第78-80页 |
5.1 工作总结 | 第78页 |
5.2 工作展望 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-84页 |
个人简历 | 第84页 |