基于半导电复合材料的线圈阻抗特性研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外发展动态及研究现状 | 第12-16页 |
| 1.2.1 位移测量发展及现状 | 第12页 |
| 1.2.2 压力测量发展及现状 | 第12-13页 |
| 1.2.3 半导电高分子复合材料发展及现状 | 第13-16页 |
| 1.3 研究的创新点和意义 | 第16页 |
| 1.4 课题主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 压敏线圈制备及实验平台 | 第17-23页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 制备压敏线圈和复合材料薄膜 | 第17-21页 |
| 2.2.1 复合材料常用制备方法 | 第17-18页 |
| 2.2.2 压敏线圈的制备流程 | 第18-20页 |
| 2.2.3 线圈试样和被测物 | 第20-21页 |
| 2.3 实验仪器及测试平台 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 电涡流线圈的有限元仿真研究与分析 | 第23-39页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 电涡流线圈位移检测原理 | 第23-24页 |
| 3.3 有限元模型的建立 | 第24-26页 |
| 3.4 求解与后处理 | 第26-31页 |
| 3.5 探头线圈结构及尺寸对其性能的影响 | 第31-35页 |
| 3.6 仿真结果与理论值和实验值的比较 | 第35-39页 |
| 第4章 压敏线圈阻抗特性研究 | 第39-67页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 复合材料制成线圈前后阻抗特性比较 | 第39-41页 |
| 4.3 自由线圈阻抗特性研究 | 第41-42页 |
| 4.4 压敏线圈阻抗提离特性 | 第42-52页 |
| 4.4.1 质量比对线圈阻抗提离特性的影响 | 第43-49页 |
| 4.4.2 频率对线圈阻抗提离特性的影响 | 第49-51页 |
| 4.4.3 不同导电相线圈阻抗提离特性比较 | 第51-52页 |
| 4.5 压敏线圈阻抗压力特性 | 第52-61页 |
| 4.5.1 压敏线圈压力检测原理 | 第52-53页 |
| 4.5.2 质量比对线圈阻抗压力特性的影响 | 第53-59页 |
| 4.5.3 频率对线圈阻抗压力特性的影响 | 第59-60页 |
| 4.5.4 不同导电相线圈阻抗压力特性比较 | 第60-61页 |
| 4.6 重复性研究 | 第61-64页 |
| 4.7 线圈阻抗提离和阻抗压力转换公式 | 第64-65页 |
| 4.8 本章小结 | 第65-67页 |
| 第5章 位移和压力测量系统的设计 | 第67-75页 |
| 5.1 引言 | 第67页 |
| 5.2 阻抗测量电路 | 第67-72页 |
| 5.2.1 硬件电路总体结构 | 第67-68页 |
| 5.2.2 电源模块设计 | 第68页 |
| 5.2.3 单片机数字电路设计 | 第68-69页 |
| 5.2.4 阻抗测量模块设计 | 第69-71页 |
| 5.2.5 串口通信电路 | 第71页 |
| 5.2.6 下载电路 | 第71-72页 |
| 5.3 上位机界面设计 | 第72-74页 |
| 5.3.1 串口通信配置程序 | 第72-73页 |
| 5.3.2 数据的保存及显示 | 第73-74页 |
| 5.3.3 数据滤波程序 | 第74页 |
| 5.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第6章 系统测试与误差分析 | 第75-83页 |
| 6.1 引言 | 第75页 |
| 6.2 线圈质量比和测试频率的选择 | 第75-76页 |
| 6.3 复合材料线圈的标定 | 第76-80页 |
| 6.4 测量误差分析 | 第80-82页 |
| 6.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第7章 总结与展望 | 第83-85页 |
| 7.1 总结 | 第83页 |
| 7.2 展望 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
