| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 晶硅太阳能电池的研究背景和发展历史 | 第9-12页 |
| 1.2.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2.2 发展历史 | 第10-12页 |
| 1.3 晶硅太阳能电池的工作原理 | 第12-13页 |
| 1.3.1 分类 | 第12页 |
| 1.3.2 工作原理 | 第12-13页 |
| 1.4 晶硅太阳能电池前栅线电极的传统制备方法 | 第13-15页 |
| 1.4.1 丝网印刷Ag前栅线电极 | 第13-14页 |
| 1.4.2 移印前栅线电极 | 第14页 |
| 1.4.3 喷墨打印前栅线电极 | 第14页 |
| 1.4.4 光诱导电镀前栅线电极 | 第14-15页 |
| 1.5 新型电镀铜前栅线电极 | 第15-18页 |
| 1.5.1 扩散阻挡层 | 第16页 |
| 1.5.2 金属导电层 | 第16-18页 |
| 第二章 光诱导电镀扩散阻挡层 | 第18-29页 |
| 2.1 扩散阻挡层 | 第18-20页 |
| 2.1.1 扩散阻挡层的分类 | 第18-19页 |
| 2.1.2 扩散阻挡层的研究现状 | 第19-20页 |
| 2.2 光诱导电镀 | 第20-23页 |
| 2.2.0 光诱导电镀的起源及发展 | 第20页 |
| 2.2.1 半导体与溶液的接触界面 | 第20-21页 |
| 2.2.2 光诱导电镀原理 | 第21-22页 |
| 2.2.3 光诱导电镀装置设计 | 第22-23页 |
| 2.3 半成品晶硅太阳能电池片 | 第23-24页 |
| 2.3.1 制作工艺 | 第23-24页 |
| 2.4 溶液浓度与光诱导电镀 | 第24页 |
| 2.5 光源与光诱导电镀 | 第24-26页 |
| 2.5.1 光强对光诱导电镀的影响 | 第25-26页 |
| 2.5.2 单色光对光诱导电镀的影响 | 第26页 |
| 2.6 表征手段及药品 | 第26-28页 |
| 2.6.1 表征方法 | 第26-27页 |
| 2.6.2 实验药品 | 第27页 |
| 2.6.3 实验仪器 | 第27-28页 |
| 2.7 本论文的工作重点及研究意义 | 第28-29页 |
| 第三章 光诱导电镀钴及其表征 | 第29-46页 |
| 3.1 光诱导电镀过程 | 第29-32页 |
| 3.1.1 实验步骤 | 第29-32页 |
| 3.2 光诱导电镀的沉积条件 | 第32-34页 |
| 3.2.1 基底 | 第32-33页 |
| 3.2.2 光照强度 | 第33页 |
| 3.2.3 溶液浓度 | 第33页 |
| 3.2.4 波长 | 第33-34页 |
| 3.3 不同条件下光诱导电镀过程中的I-t曲线及分析 | 第34-45页 |
| 3.3.1 不同基底 | 第34-37页 |
| 3.3.2 光照强度 | 第37-39页 |
| 3.3.3 溶液浓度及其吸收谱 | 第39-43页 |
| 3.3.4 光源波长及其光谱 | 第43-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 光诱导电镀钴栅线及其表征 | 第46-57页 |
| 4.1 光诱导电镀钴栅线装置设计及实验步骤 | 第46-48页 |
| 4.1.1 实验步骤 | 第47-48页 |
| 4.2 掩模板设计 | 第48-50页 |
| 4.2.1 掩模板设计 | 第48页 |
| 4.2.2 光诱导电镀后钴栅线照片 | 第48-49页 |
| 4.2.3 存在问题 | 第49-50页 |
| 4.3 掩模板优化设计 | 第50-52页 |
| 4.3.1 二次设计 | 第50页 |
| 4.3.2 光诱导电镀后栅线照片 | 第50-51页 |
| 4.3.3 SEM形貌表征 | 第51-52页 |
| 4.4 快速退火(RTP) | 第52-53页 |
| 4.5 化合物表征 | 第53-55页 |
| 4.5.1 SEM形貌表征 | 第53-55页 |
| 4.5.2 XRD成分分析 | 第55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 总结 | 第57-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-69页 |
| 攻读硕士期间参与的课题、取得的成果及奖励 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |