| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第10-37页 |
| 1.1 多铁性材料的定义 | 第10页 |
| 1.2 多铁材料的研究概述与主要应用 | 第10-13页 |
| 1.2.1 多铁材料的研究小史 | 第10-12页 |
| 1.2.2 多铁材料的器件化应用 | 第12-13页 |
| 1.3 多铁材料的主要机制 | 第13-16页 |
| 1.4 单相多铁材料的研究进展 | 第16-31页 |
| 1.4.1 BiFeO_3单相多铁材料的研究进展 | 第16-18页 |
| 1.4.2 单相六方锰氧化物研究进展 | 第18-28页 |
| 1.4.4 稀土铁氧化物单相多铁材料的研究进展 | 第28-31页 |
| 1.5 复合多铁的研究进展 | 第31-32页 |
| 1.6 单晶的生长方法 | 第32-33页 |
| 1.7 论文的研究思路 | 第33-34页 |
| 1.8 本论文的亮点及创新点 | 第34-35页 |
| 1.9 本章小结 | 第35-37页 |
| 第2章 透射电镜中常用的实验方法 | 第37-51页 |
| 2.1 本章引言 | 第37-38页 |
| 2.2 像差校正透射电镜的基本原理 | 第38-41页 |
| 2.3 扫描透射电镜的成像原理 | 第41-44页 |
| 2.4 电子能量损失谱 | 第44-48页 |
| 2.4.1 电子能量损失谱的基本原理 | 第44-46页 |
| 2.4.2 EELS谱的应用 | 第46-48页 |
| 2.5 X射线能谱 | 第48页 |
| 2.6 电子的磁手性二向色性技术 | 第48-51页 |
| 第3章 YMnO_3中非对称的二次电子产额 | 第51-62页 |
| 3.1 本章简介 | 第51页 |
| 3.2 背景介绍 | 第51-54页 |
| 3.3 实验与计算 | 第54-61页 |
| 3.3.1 扫描电镜实验 | 第54-57页 |
| 3.3.2 扫描电镜中样品表面电势的计算 | 第57-61页 |
| 3.4 结论 | 第61-62页 |
| 第4章 衍衬像解析多铁六方锰氧化物拓扑畴的极化结构 | 第62-71页 |
| 4.1 本章引言 | 第62页 |
| 4.2 本章简介 | 第62页 |
| 4.3 背景介绍 | 第62-63页 |
| 4.4 实验内容 | 第63-69页 |
| 4.4.1 中心对称晶体的Howie-Whelan方程 | 第63-64页 |
| 4.4.2 非中心对称晶体的Howie-Whelan方程 | 第64-69页 |
| 4.5 结论 | 第69-71页 |
| 第5章 六次对称体系中非六次涡旋畴结构 | 第71-81页 |
| 5.1 本章引言 | 第71页 |
| 5.2 本章概述 | 第71页 |
| 5.3 背景介绍 | 第71-73页 |
| 5.4 实验与讨论 | 第73-80页 |
| 5.5 结论 | 第80-81页 |
| 第6章 氧空位对YMnO_3晶体结构和电子结构的影响 | 第81-93页 |
| 6.1 本章引言 | 第81页 |
| 6.2 本章概述 | 第81页 |
| 6.3 背景简介 | 第81-83页 |
| 6.4 实验结果与讨论 | 第83-92页 |
| 6.5 结论 | 第92-93页 |
| 第7章 面外氧空位诱导YMnO_3薄膜中铁磁性 | 第93-110页 |
| 7.1 本章引言 | 第93页 |
| 7.2 本章概述 | 第93页 |
| 7.3 背景简介 | 第93-95页 |
| 7.4 课题研究主要内容 | 第95-109页 |
| 7.4.1 理论计算 | 第95-97页 |
| 7.4.2 YMnO_3薄膜生长和表征 | 第97-109页 |
| 7.5 结果讨论 | 第109页 |
| 7.6 结论 | 第109-110页 |
| 第8章 结论与展望 | 第110-112页 |
| 8.1 结论 | 第110-111页 |
| 8.2 展望 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-122页 |
| 致谢 | 第122-124页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第124-125页 |
