| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·聚合物基纳米复合材料概述 | 第10-15页 |
| ·纳米复合材料的概念及分类 | 第10-11页 |
| ·纳米粒子对高分子材料的改性 | 第11-13页 |
| ·聚合物基纳米复合材料的制备方法 | 第13-14页 |
| ·聚合物基纳米复合材料的性能 | 第14-15页 |
| ·尼龙6的制备方法 | 第15-18页 |
| ·尼龙6的水解聚合方法 | 第15-16页 |
| ·尼龙6的阴离子聚合方法 | 第16-18页 |
| ·阴离子法制备尼龙6纳米复合材料研究进展 | 第18-20页 |
| ·本课题的研究意义及思路 | 第20-22页 |
| ·本课题的研究意义 | 第20-21页 |
| ·本课题拟采取的研究思路 | 第21-22页 |
| 第2章 纳米二氧化硅接枝己内酰胺的制备及表征 | 第22-30页 |
| ·药品与仪器 | 第22-23页 |
| ·所用化学试剂 | 第22页 |
| ·部分试剂的纯化 | 第22-23页 |
| ·所用实验仪器 | 第23页 |
| ·纳米二氧化硅接枝己内酰胺活化剂的制备 | 第23-24页 |
| ·纳米二氧化硅的活化处理 | 第23页 |
| ·纳米二氧化硅的异氰酸酯官能化 | 第23页 |
| ·纳米二氧化硅表面接枝己内酰胺(纳米SiO_2-g-CL)的合成 | 第23-24页 |
| ·分析测试 | 第24-25页 |
| ·SEM测定 | 第24页 |
| ·纳米二氧化硅表面有机物接枝率的测定 | 第24-25页 |
| ·FT-IR检测 | 第25页 |
| ·TGA测定 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-29页 |
| ·纳米二氧化硅的粒径及形态 | 第25-26页 |
| ·纳米SiO_2-g-CL活化剂的制备工艺 | 第26-28页 |
| ·产物结构分析及TGA测定 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 纳米二氧化硅表面接枝尼龙6的制备及性能测试 | 第30-50页 |
| ·药品与仪器 | 第30-31页 |
| ·所用化学试剂 | 第30页 |
| ·部分试剂的纯化 | 第30-31页 |
| ·所用实验仪器 | 第31页 |
| ·尼龙6阴离子聚合实验 | 第31-34页 |
| ·引发剂的合成 | 第31-32页 |
| ·阴离子聚合方法制备纯尼龙6 | 第32-33页 |
| ·接枝法制备尼龙6/纳米二氧化硅复合材料(纳米SiO_2-g-PA6) | 第33页 |
| ·共混法制备尼龙6/纳米二氧化硅复合材料(PA6/纳米SiO_2) | 第33-34页 |
| ·产品的提纯 | 第34页 |
| ·分析测试 | 第34-37页 |
| ·FT-IR检测 | 第34页 |
| ·单体转化率实验 | 第34页 |
| ·尼龙6的特性粘度的测定 | 第34-35页 |
| ·SEM测定 | 第35-36页 |
| ·DSC测定 | 第36页 |
| ·TGA测定 | 第36页 |
| ·DMA测定 | 第36-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-49页 |
| ·尼龙6的阴离子聚合机理 | 第37-38页 |
| ·尼龙6阴离子聚合条件的选择 | 第38-40页 |
| ·阴离子型纯尼龙6和纳米SiO_2-g-PA6的制备及表征 | 第40-42页 |
| ·纳米SiO_2-g-CL添加量对聚合反应及产物粘度的影响 | 第42-43页 |
| ·聚合时间对接枝聚合物量的影响 | 第43-44页 |
| ·相结构的表征 | 第44页 |
| ·产品性能的测试 | 第44-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第58页 |
