熔石英元件电感耦合等离子体加工关键工艺研究
| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-23页 |
| 1.1 课题来源及意义 | 第14-16页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第14页 |
| 1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第14-16页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第16-21页 |
| 1.2.1 熔石英光学元件去损伤加工发展现状 | 第16-18页 |
| 1.2.2 等离子体加工技术发展现状 | 第18-21页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 电感耦合等离子体加工热场研究 | 第23-35页 |
| 2.1 等离子体热源模型 | 第23-25页 |
| 2.1.1 建立热源模型 | 第23-24页 |
| 2.1.2 热源模型优化 | 第24-25页 |
| 2.2 等离子体作用下工件温度场建模 | 第25-28页 |
| 2.2.1 熔石英材料热传导描述 | 第25-26页 |
| 2.2.2 等离子体作用下的温度模型 | 第26-28页 |
| 2.3 等离子体作用下温度场实验与仿真 | 第28-34页 |
| 2.3.1 温度场实验研究 | 第28-33页 |
| 2.3.2 温度场仿真研究 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 基于热效应控制的参数与工艺优化 | 第35-44页 |
| 3.1 工艺参数优化 | 第35-39页 |
| 3.1.1 工艺参数对热效应的影响 | 第35-38页 |
| 3.1.2 工艺参数的优化 | 第38-39页 |
| 3.2 加工路径优化 | 第39-43页 |
| 3.2.1 加工路径对热效应的影响 | 第39-42页 |
| 3.2.2 加工路径的优化 | 第42-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 时变去除函数及其驻留时间算法 | 第44-58页 |
| 4.1 去除函数的时变非线性规律 | 第44-49页 |
| 4.1.1 去除函数的表达形式 | 第44-45页 |
| 4.1.2 去除函数的提取 | 第45-46页 |
| 4.1.3 去除函数的非线性 | 第46-49页 |
| 4.2 驻留时间补偿算法 | 第49-52页 |
| 4.2.1 常见驻留时间算法 | 第49-50页 |
| 4.2.2 基于脉冲迭代的补偿驻留时间算法 | 第50-52页 |
| 4.3 面形误差边缘延拓 | 第52-57页 |
| 4.3.1 边缘延拓简介 | 第52-54页 |
| 4.3.2 光滑下降延拓 | 第54-55页 |
| 4.3.3 不同延拓方式效果对比 | 第55-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 电感耦合等离子体修形工艺研究 | 第58-66页 |
| 5.1 加工仿真研究 | 第58-61页 |
| 5.1.1 电感耦合等离子体修形工艺流程 | 第58-59页 |
| 5.1.2 修形仿真研究 | 第59-61页 |
| 5.2 熔石英平面方镜修形实验 | 第61-65页 |
| 5.3 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 6.2 研究展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第73页 |
