| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·浸润性基础理论 | 第12-17页 |
| ·接触角与Young氏方程 | 第12-13页 |
| ·Wenzel和Cassie-Baxter模型及其转变 | 第13-15页 |
| ·前进角、后退角和接触角滞后现象 | 第15-16页 |
| ·滚落角与粘附力 | 第16-17页 |
| ·超疏水表面的制备技术 | 第17-21页 |
| ·LBL和胶体组装法 | 第17-18页 |
| ·刻蚀和模板法 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| ·电化学方法 | 第19-20页 |
| ·气相沉积法 | 第20-21页 |
| ·点击化学简介及在表面修饰中的应用研究 | 第21-23页 |
| ·点击化学概念 | 第21页 |
| ·点击化学的类型及特征 | 第21-22页 |
| ·端基炔与叠氮基点击反应的原理 | 第22页 |
| ·点击化学在表面修饰中的应用 | 第22-23页 |
| ·课题研究目的、意义及思路 | 第23-25页 |
| 第2章 实验与表征 | 第25-36页 |
| ·基本原理 | 第25-26页 |
| ·粗糙表面设计 | 第25页 |
| ·低表面能物质 | 第25-26页 |
| ·药品与仪器 | 第26-27页 |
| ·原料规格 | 第26页 |
| ·原料精制与预处理 | 第26-27页 |
| ·实验仪器及设备 | 第27页 |
| ·含氟偶氮苯小分子的制备 | 第27-28页 |
| ·4-羟基-4'-三氟甲氧基偶氮苯的合成 | 第27-28页 |
| ·4-炔丙氧基-4'-三氟甲氧基偶氮苯的合成 | 第28页 |
| ·LBL自组装构造毛刺结构及低表面能处理 | 第28-31页 |
| ·硅表面的氨基化处理 | 第28页 |
| ·硅片表面氨基的质子化 | 第28页 |
| ·硅片表面组装次微米二氧化硅 | 第28-29页 |
| ·硅片表面自组装纳米二氧化硅 | 第29页 |
| ·粗糙表面的热处理 | 第29-30页 |
| ·氧化硅表面的氯烷基化 | 第30页 |
| ·表面氯烷基的叠氮化 | 第30页 |
| ·粗糙表面点击反应进行低表面能处理 | 第30-31页 |
| ·点击化学构筑仙人球状结构表面及低表面能处理 | 第31-33页 |
| ·硅表面的氨基化处理 | 第31页 |
| ·硅片表面端基炔的引入 | 第31页 |
| ·端基炔化次微米二氧化硅的制备 | 第31页 |
| ·叠氮化纳米二氧化硅的制备 | 第31页 |
| ·仙人球状粗糙结构的构筑 | 第31-32页 |
| ·粗糙表面的构筑 | 第32-33页 |
| ·粗糙表面点击反应低表面能处理 | 第33页 |
| ·分析测试 | 第33-36页 |
| ·偶氮苯小分子的核磁表征 | 第33页 |
| ·氧化硅表面接枝的红外分析 | 第33-34页 |
| ·氧化硅表面接枝的元素分析 | 第34页 |
| ·接触角(CA)的测量 | 第34-35页 |
| ·多级结构及粗糙表面的SEM表征 | 第35页 |
| ·粗糙表面的AFM表征 | 第35-36页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第36-51页 |
| ·含氟偶氮苯小分子的合成 | 第36-37页 |
| ·4-羟基-4'-三氟甲氧基偶氮苯的~1H NMR表征 | 第36-37页 |
| ·4-炔丙基氧-4'-三氟甲氧基偶氮苯的~1H NMR表征 | 第37页 |
| ·LBL自组装粗糙表面的结构和性能 | 第37-42页 |
| ·LBL自组装粗糙表面浸润性能研究 | 第37-38页 |
| ·LBL自组装粗糙表面的SEM分析 | 第38-41页 |
| ·LBL自组装粗糙表面的AFM形貌分析 | 第41页 |
| ·LBL自组装粗糙表面的热处理 | 第41-42页 |
| ·点击化学构筑粗糙表面的结构和性能 | 第42-51页 |
| ·二氧化硅表面接枝的红外分析 | 第42-43页 |
| ·二氧化硅表面接枝的元素分析 | 第43页 |
| ·点击化学构筑粗糙表面浸润性能研究 | 第43-44页 |
| ·点击化学构筑多级粗糙结构的SEM分析 | 第44-45页 |
| ·仙人球状粗糙表面的SEM分析 | 第45-46页 |
| ·仙人球状结构粗糙表面的形貌AFM分析 | 第46-47页 |
| ·稳定性分析 | 第47页 |
| ·浸润机理分析 | 第47-51页 |
| 结论与展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
