基于共生生物搜索算法的半导体生产线调度方法研究
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-24页 |
1.1研究背景及意义 | 第12页 |
1.2 半导体生产线概述 | 第12-17页 |
1.2.1 半导体生产线工艺流程 | 第12-15页 |
1.2.2 半导体生产线调度问题分类 | 第15-16页 |
1.2.3 半导体生产线调度目标 | 第16-17页 |
1.3 国内外研究现状 | 第17-21页 |
1.3.1 调度方法研究现状 | 第17-19页 |
1.3.2 光刻过程调度问题研究现状 | 第19-20页 |
1.3.3 刻蚀过程调度问题研究现状 | 第20-21页 |
1.4 论文结构安排 | 第21-24页 |
第二章 面向光刻阶段的多策略融合调度方法 | 第24-44页 |
2.1 引言 | 第24页 |
2.2 低成品率光刻机调度问题 | 第24-27页 |
2.2.1 光刻机加工结构 | 第25-26页 |
2.2.2 光刻机调度模型 | 第26-27页 |
2.3 基于多策略融合的改进共生生物搜索算法 | 第27-36页 |
2.3.1 反向初始化阶段 | 第28-30页 |
2.3.2 带有局部搜索的互利共生阶段 | 第30-32页 |
2.3.3 带有局部搜索的偏利共生阶段 | 第32-33页 |
2.3.4 反向寄生阶段 | 第33-34页 |
2.3.5 灾变阶段 | 第34-36页 |
2.4 仿真试验设计 | 第36-37页 |
2.5 仿真结果及分析 | 第37-42页 |
2.5.1 仿真试验结果 | 第37-41页 |
2.5.2 结果分析 | 第41-42页 |
2.6 本章小结 | 第42-44页 |
第三章 面向刻蚀阶段的多目标高效智能调度算法 | 第44-60页 |
3.1 引言 | 第44页 |
3.2 多目标可重入流水车间调度问题 | 第44-47页 |
3.2.1 刻蚀过程加工结构 | 第44-45页 |
3.2.2 可重入流水车间调度问题模型 | 第45-47页 |
3.3 自终止共生生物搜索算法 | 第47-54页 |
3.3.1 基于信息熵的终止规则 | 第47-51页 |
3.3.2 多目标共生生物搜索算法 | 第51-53页 |
3.3.3 自终止共生生物搜索算法求解框架 | 第53-54页 |
3.4 仿真及结果分析 | 第54-58页 |
3.4.1 参数设置 | 第54-55页 |
3.4.2 结果与分析 | 第55-58页 |
3.5 本章小结 | 第58-60页 |
第四章 结论与展望 | 第60-62页 |
4.1 结论 | 第60页 |
4.2 展望 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
致谢 | 第66-68页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第68-70页 |
作者和导师简介 | 第70-72页 |
附件 | 第72-73页 |