| 摘要 | 第5-8页 |
| abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第13-37页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第13-18页 |
| 1.2 相关领域的研究现状 | 第18-35页 |
| 1.2.1 表面等离子体激元的发展历史与研究现状 | 第18-20页 |
| 1.2.2 基于表面等离子体激元的超吸收特性研究现状 | 第20-27页 |
| 1.2.3 超薄有损耗薄膜的研究现状 | 第27-30页 |
| 1.2.4 微纳加工手段的简单介绍 | 第30-35页 |
| 1.3 论文研究目的 | 第35页 |
| 1.4 论文研究内容 | 第35-37页 |
| 第2章 表面等离子体激元的基本理论与数值仿真方法 | 第37-57页 |
| 2.1 引言 | 第37页 |
| 2.2 表面等离子体激元的基本原理 | 第37-48页 |
| 2.2.1 麦克斯韦方程组与电磁波的传播 | 第37-39页 |
| 2.2.2 表面等离极化激元的激发 | 第39-42页 |
| 2.2.3 金属-介质单界面上的表面等离极化激元及其特征长度 | 第42-45页 |
| 2.2.4 多层体系中的表面等离极化激元 | 第45-48页 |
| 2.3 电磁波时域有限差分方法 | 第48-56页 |
| 2.3.1 麦克斯韦方程和Yee元胞 | 第49-53页 |
| 2.3.2 数值稳定性 | 第53-56页 |
| 2.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第3章 金属-介质多层薄膜窄带电磁波超吸收特性的研究 | 第57-79页 |
| 3.1 引言 | 第57页 |
| 3.2 多层薄膜的理论仿真计算 | 第57-70页 |
| 3.2.1 多层薄膜的FDTD仿真 | 第57-61页 |
| 3.2.2 多层薄膜特性的理论计算 | 第61-70页 |
| 3.3 窄带超吸收薄膜的制作工艺 | 第70-73页 |
| 3.4 实验结果分析 | 第73-77页 |
| 3.5 本章小结 | 第77-79页 |
| 第4章 多层薄膜与纳米孔阵列复合结构的超吸收特性研究 | 第79-107页 |
| 4.1 引言 | 第79页 |
| 4.2 金属纳米孔阵列的光学异常透射现象 | 第79-86页 |
| 4.3 金属-介质-金属纳米孔阵列的超吸收特性 | 第86-95页 |
| 4.3.1 金属-介质-金属纳米孔阵列的FDTD模拟仿真 | 第87-90页 |
| 4.3.2 金属-介质-金属纳米孔阵列的理论计算 | 第90-95页 |
| 4.4 微球自组装制备金属纳米孔阵列的工艺研究 | 第95-102页 |
| 4.5 实验结果分析 | 第102-104页 |
| 4.6 本章小结 | 第104-107页 |
| 第5章 硅基纳米结构宽带超吸收特性的研究 | 第107-127页 |
| 5.1 引言 | 第107-108页 |
| 5.2 硅基纳米锥阵列的超吸收特性研究 | 第108-117页 |
| 5.3 一种新型超宽带吸收材料的理论仿真 | 第117-126页 |
| 5.3.1 物理模型与FDTD仿真 | 第117-121页 |
| 5.3.2 宽带吸收物理机制的理论分析 | 第121-126页 |
| 5.4 本章小结 | 第126-127页 |
| 第6章 结论与展望 | 第127-131页 |
| 6.1 结论 | 第127-128页 |
| 6.2 研究展望 | 第128-131页 |
| 参考文献 | 第131-141页 |
| 致谢 | 第141-143页 |
| 指导教师简介 | 第143-145页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第145-146页 |
