| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 当前研究现状与发展前景 | 第10-13页 |
| 1.2.1 MoS_2的晶体结构 | 第10-12页 |
| 1.2.2 MoS_2的润滑性能 | 第12页 |
| 1.2.3 MoS_2物理化学性质 | 第12-13页 |
| 1.3 MOS_2的带电粒子辐照效应 | 第13-15页 |
| 1.3.1 带电粒子辐照空间材料的效应及机理 | 第13-14页 |
| 1.3.2 带电粒子辐射对MoS_2薄膜的影响 | 第14-15页 |
| 1.4 纳米MOS_2研究现状 | 第15-19页 |
| 1.4.1类石墨烯MoS_2 | 第15-16页 |
| 1.4.2 富勒烯(IF-MoS_2) | 第16-17页 |
| 1.4.3 纳米MoS_2的应用 | 第17页 |
| 1.4.4 纳米MoS_2的性能 | 第17-19页 |
| 1.5 本文的研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第21-27页 |
| 2.1 试验材料及制备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第21页 |
| 2.1.2 MoS_2薄膜的制备 | 第21-22页 |
| 2.2 质子辐照试验方法 | 第22-23页 |
| 2.2.1 质子辐照设备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 质子辐照试验参数 | 第23页 |
| 2.3 摩擦学试验方法 | 第23-25页 |
| 2.3.1 摩擦试验设备 | 第23-24页 |
| 2.3.2 摩擦试验试样形状与尺寸的选择 | 第24页 |
| 2.3.3 摩擦试验参数的选择 | 第24-25页 |
| 2.3.4 MoS_2薄膜表面粗糙度和划痕截面积的测量 | 第25页 |
| 2.4 显微分析方法 | 第25-27页 |
| 2.4.1 MoS_2薄膜的成分分析 | 第25-26页 |
| 2.4.2 MoS_2薄膜的相结构分析 | 第26页 |
| 2.4.3 MoS_2薄膜的形貌分析分析 | 第26页 |
| 2.4.4 MoS_2薄膜的表面粗糙度分析 | 第26页 |
| 2.4.5 顺磁共振谱(EPR)分析 | 第26-27页 |
| 第3章 质子辐照MoS_2薄膜的结构表征 | 第27-45页 |
| 3.1 MOS_2薄膜的成分变化分析 | 第27-33页 |
| 3.1.1 MoS_2薄膜中所含有的元素种类 | 第27-29页 |
| 3.1.2 MoS_2薄膜中Mo元素的化学态 | 第29-30页 |
| 3.1.3 MoS_2薄膜中S元素的化学态 | 第30-31页 |
| 3.1.4 MoS_2薄膜中Au元素的化学态 | 第31-32页 |
| 3.1.5 MoS_2薄膜中C元素的化学态 | 第32-33页 |
| 3.2 质子辐照MOS_2薄膜表面形貌 | 第33-34页 |
| 3.3 MOS_2薄膜在质子辐照下的溅射效应 | 第34-37页 |
| 3.3.1 铝箔表面中Mo元素的化学态 | 第35-36页 |
| 3.3.2 铝箔表面中S元素的化学态 | 第36页 |
| 3.3.3 铝箔表面中Au元素的化学态 | 第36-37页 |
| 3.4 MOS_2薄膜的相结构变化分析 | 第37-39页 |
| 3.5 MOS_2薄膜的表面粗糙度变化分析 | 第39-40页 |
| 3.6 MOS_2薄膜的显微组织分析 | 第40-42页 |
| 3.7 顺磁共振分析 | 第42-44页 |
| 3.8 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 质子辐照MoS_2薄膜摩擦学行为 | 第45-59页 |
| 4.1 辐照对摩擦行为的影响 | 第45-50页 |
| 4.1.1 质子辐照MoS_2薄膜摩擦曲线 | 第45-48页 |
| 4.1.2 质子辐照对MoS_2薄膜摩擦系数的影响 | 第48-50页 |
| 4.2 辐照对摩损行为的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.1 质子辐照MoS_2薄膜的磨损量 | 第50页 |
| 4.2.2 质子辐照对MoS_2薄膜的磨损表面 | 第50-52页 |
| 4.3 摩擦磨损机制的分析讨论 | 第52-57页 |
| 4.3.1 原始MoS_2薄膜磨损表面形貌 | 第52-53页 |
| 4.3.2 低辐照注量MoS_2薄膜磨损表面形貌 | 第53-54页 |
| 4.3.3 高辐照注量MoS_2薄膜磨损表面形貌 | 第54-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64页 |