摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-16页 |
·课题的研究意义 | 第10-12页 |
·金属磁记忆检测国内外研究状况 | 第12-15页 |
·国外研究现状 | 第12-13页 |
·国内研究现状 | 第13-15页 |
·课题研究的内容 | 第15-16页 |
第2章 金属磁记忆检测技术的基础理论 | 第16-24页 |
·铁磁材料的磁学基本特性 | 第16-20页 |
·物质的磁性 | 第16-17页 |
·铁磁性物质的基本现象 | 第17-18页 |
·铁磁体内系统能量的表述 | 第18-20页 |
·金属磁记忆检测 | 第20-23页 |
·金属磁记忆检测基本原理 | 第20-21页 |
·磁记忆检测技术的评价判据 | 第21-22页 |
·含小孔平板磁记忆拉伸试验应力分析 | 第22-23页 |
·本章小结 | 第23-24页 |
第3章 磁畴及磁畴壁 | 第24-40页 |
·磁畴 | 第24-27页 |
·磁畴的理论结构 | 第25-27页 |
·磁畴壁 | 第27-30页 |
·单畴晶体内的180°畴壁 | 第27-30页 |
·三轴晶体内的180°畴壁 | 第30页 |
·应力对磁畴壁运动的影响 | 第30-34页 |
·应力阻碍90°壁的运动 | 第30-31页 |
·应力阻碍180°壁的可逆位移 | 第31-33页 |
·应力阻碍180°壁的不可逆位移 | 第33-34页 |
·无外加磁场时一维磁畴壁运动机理分析 | 第34-39页 |
·铁磁体磁畴壁能量方程求解 | 第35-37页 |
·铁磁体能量方程模拟仿真 | 第37-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
第4章 应力对铁磁试样表面漏磁场变化规律研究 | 第40-63页 |
·试验条件及方案 | 第40-43页 |
·实验材料 | 第40-41页 |
·实验设备 | 第41-42页 |
·试验方案 | 第42-43页 |
·平板试样应力有限元分析 | 第43-46页 |
·中心圆孔平板20#钢试样有限元分析 | 第43-46页 |
·不带缺陷平板试样静拉伸试验 | 第46-62页 |
·无预置缺陷的平板拉伸试验结果分析 | 第46-47页 |
·不同载荷对20#钢试件表面漏磁场的影响 | 第47-50页 |
·不同载荷对无取向硅钢试件表面漏磁场的影响 | 第50-55页 |
·圆棒试样静拉伸试验 | 第55-60页 |
·磁记忆检测技术定性分析 | 第60-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
第5章 应力对磁畴组织形貌影响的研究 | 第63-79页 |
·试验条件及方案 | 第63-65页 |
·试验材料 | 第63-64页 |
·实验方法 | 第64-65页 |
·磁悬液的配置 | 第65-68页 |
·Bitter 粉纹法观察条件 | 第65-66页 |
·磁悬液的配置 | 第66-67页 |
·制备过程中影响因素 | 第67-68页 |
·不同应力对磁畴组织结构的影响规律 | 第68-74页 |
·不同弯曲角度对无取向硅钢片磁畴组织的影响 | 第68-69页 |
·不同载荷对20#磁畴组织的影响 | 第69-71页 |
·不同载荷对45#钢磁畴组织的影响 | 第71-73页 |
·不同载荷对18CrMnSiN2A 钢磁畴组织的影响 | 第73页 |
·试验小结 | 第73-74页 |
·表面漏磁场与磁畴组织结构变化的关系 | 第74-78页 |
·本章小结 | 第78-79页 |
第6章 结论与展望 | 第79-81页 |
·结论 | 第79-80页 |
·技术展望 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-85页 |
发表论文情况说明 | 第85-86页 |
致谢 | 第86-87页 |