太阳能选择性吸收涂层发射率机理及建模方法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 1、绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 太阳能热发电技术 | 第11-13页 |
| 1.3 太阳能选择性吸收涂层 | 第13-16页 |
| 1.4 涂层发射率建模方法的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第17-18页 |
| 2、涂层发射率建模的理论基础 | 第18-29页 |
| 2.1 黑体辐射及发射率定义 | 第18-22页 |
| 2.1.1 普朗克公式 | 第18-21页 |
| 2.1.2 物体的辐射与发射率 | 第21-22页 |
| 2.2 固体介质的光吸收理论 | 第22-24页 |
| 2.2.1 吸收功率与复介电函数的关系 | 第22-23页 |
| 2.2.2 消光系数与复介电函数的关系 | 第23-24页 |
| 2.3 有效介质理论 | 第24-26页 |
| 2.3.1 MG公式 | 第24-25页 |
| 2.3.2 BR公式 | 第25-26页 |
| 2.4 传播矩阵理论 | 第26-29页 |
| 3、基于labview的涂层发射率建模方法 | 第29-42页 |
| 3.1 建模原理 | 第29-31页 |
| 3.2 材料光学常数的获取 | 第31-33页 |
| 3.2.1 光谱反演法 | 第31-32页 |
| 3.2.2 查表插值法 | 第32-33页 |
| 3.3 吸收层有效介电函数的推导 | 第33-37页 |
| 3.4 金属-陶瓷涂层发射率模型的建立 | 第37-42页 |
| 3.4.1 光学厚度的计算 | 第38页 |
| 3.4.2 传播矩阵特征值的计算 | 第38-42页 |
| 4、Mo-SiO_2涂层发射率模型的仿真实验 | 第42-57页 |
| 4.1 金属钼膜的光谱反射特性 | 第42-44页 |
| 4.2 体积数对吸收层有效介电函数的影响 | 第44-48页 |
| 4.2.1 体积数对低掺杂层的影响 | 第44-46页 |
| 4.2.2 体积数对高掺杂层的影响 | 第46-48页 |
| 4.3 体积数对吸收层光学常数的影响 | 第48-50页 |
| 4.4 吸收层体积数对涂层发射率的影响 | 第50-53页 |
| 4.4.1 f_L对发射率的影响 | 第50-52页 |
| 4.4.2 f_H对发射率的影响 | 第52-53页 |
| 4.5 吸收层厚度对涂层发射率的影响 | 第53-56页 |
| 4.6 仿真结果与测量数据的对比 | 第56-57页 |
| 5、总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 总结 | 第57-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
