| 致谢 | 第4-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 缩略语 | 第10-13页 |
| 1 引言 | 第13-16页 |
| 2 实验材料 | 第16-21页 |
| 2.1 细胞及培养液 | 第16页 |
| 2.2 主要试剂 | 第16-17页 |
| 2.3 主要仪器设备 | 第17-18页 |
| 2.4 主要耗材 | 第18页 |
| 2.5 缓冲液与常用试剂配制 | 第18-19页 |
| 2.6 工频磁场辐照系统 | 第19-20页 |
| 2.7 分析软件 | 第20-21页 |
| 3 实验方法 | 第21-27页 |
| 3.1 工频磁场暴露对FL细胞线粒体膜通透性的影响 | 第21-22页 |
| 3.2 ROS对工频磁场诱导线粒体膜通透性改变的影响 | 第22页 |
| 3.3 工频磁场暴露对线粒体膜电位的影响 | 第22-23页 |
| 3.4 工频磁场暴露对细胞色素C释放的影响 | 第23-25页 |
| 3.5 工频磁场对FL细胞凋亡水平的影响 | 第25-27页 |
| 4. 实验结果 | 第27-33页 |
| 4.1 工频磁场暴露对FL细胞线粒体膜通透性的影响 | 第27-28页 |
| 4.2 工频磁场诱导FL细胞线粒体膜通透性改变与ROS之间关系 | 第28页 |
| 4.3 工频磁场暴露对FL细胞线粒体膜电位的影响 | 第28-30页 |
| 4.4 工频磁场暴露对FL细胞线粒体细胞色素C释放的影响 | 第30-31页 |
| 4.5 工频磁场暴露对FL细胞细胞凋亡的影响 | 第31-33页 |
| 5. 讨论 | 第33-37页 |
| 6. 结论 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-42页 |
| 综述 | 第42-53页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 作者简介 | 第53页 |
