摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-21页 |
1.1 研究背景 | 第11页 |
1.2 光催化技术及其光催化材料简介 | 第11-13页 |
1.3 半导体催化剂研究进展 | 第13-18页 |
1.3.1 半导体材光催化剂特性 | 第13页 |
1.3.2 半导体光催化材料的不足 | 第13页 |
1.3.3 半导体光催化剂改性方法 | 第13-16页 |
1.3.4 半导体光催化剂的制备方法 | 第16-18页 |
1.4 In_2O_3研究的意义和现状 | 第18-20页 |
1.4.1 In_2O_3的性质 | 第18页 |
1.4.2 In_2O_3在光催化中的应用 | 第18-19页 |
1.4.3 In_2O_3的改性 | 第19-20页 |
1.5 本研究的目的与意义 | 第20-21页 |
2 In_2O_3/CdS复合材料的制备及光催化性能研究 | 第21-31页 |
2.1 引言 | 第21页 |
2.2 实验部分 | 第21-23页 |
2.2.1 实验材料与仪器 | 第21-22页 |
2.2.2 实验步骤 | 第22-23页 |
2.2.3 光催化表征 | 第23页 |
2.3 结果与讨论 | 第23-30页 |
2.3.1 样品的物相分析 | 第23-24页 |
2.3.2 样品的形貌分析 | 第24页 |
2.3.3 样品的紫外-可见漫反射分析和比表面分析 | 第24-25页 |
2.3.4 样品的光催化性能分析 | 第25-28页 |
2.3.5 亚甲基蓝的红外分析 | 第28-29页 |
2.3.6 样品的光催化机理分析 | 第29-30页 |
2.4 本章小结 | 第30-31页 |
3 In_2O_3/ZnO复合材料的制备及光催化性能研究 | 第31-42页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 实验部分 | 第31-33页 |
3.2.1 实验材料与仪器 | 第31-32页 |
3.2.2 实验步骤 | 第32页 |
3.2.3 光催化表征 | 第32-33页 |
3.3 结果与讨论 | 第33-41页 |
3.3.1 样品的物相分析 | 第33页 |
3.3.2 样品的SEM分析 | 第33-34页 |
3.3.3 样品的紫外-可见漫反射分析和比表面分析 | 第34-35页 |
3.3.4 样品的光催化性能分析 | 第35-39页 |
3.3.5 样品的荧光分析 | 第39-40页 |
3.3.6 TOC分析 | 第40页 |
3.3.7 样品的光催化机理分析 | 第40-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-42页 |
4 In_2O_3/Fe_2O_3复合材料的制备及光催化性能研究 | 第42-52页 |
4.1 引言 | 第42页 |
4.2 实验部分 | 第42-43页 |
4.2.1 实验材料与仪器 | 第42-43页 |
4.2.2 实验步骤 | 第43页 |
4.2.3 光催化表征 | 第43页 |
4.3 结果与讨论 | 第43-51页 |
4.3.1 样品的物相分析 | 第43-44页 |
4.3.2 样品的形貌分析 | 第44-45页 |
4.3.3 样品的紫外-可见漫反射分析和比表面分析 | 第45-46页 |
4.3.4 样品的光催化性能测试 | 第46-48页 |
4.3.5 产物的荧光分析 | 第48-49页 |
4.3.6 光催化降解前后染料红外分析 | 第49-50页 |
4.3.7 染料降解前后有机碳TOC分析 | 第50-51页 |
4.3.8 样品的光催化机理分析 | 第51页 |
4.4 本章小结 | 第51-52页 |
5 方块In_2O_3纳米材料的制备及其光催化性能研究 | 第52-61页 |
5.1 引言 | 第52页 |
5.2 实验部分 | 第52-53页 |
5.2.1 实验材料与仪器 | 第52-53页 |
5.2.2 实验步骤 | 第53页 |
5.2.3 光催化表征 | 第53页 |
5.3 结果与讨论 | 第53-60页 |
5.3.1 样品的物相分析 | 第53-55页 |
5.3.2 产物的形貌分析 | 第55-56页 |
5.3.3 氢氧化铟的热重分析 | 第56页 |
5.3.4 In_2O_3的光催化性能 | 第56-59页 |
5.3.5 In_2O_3的光催化降解机理 | 第59-60页 |
5.4 本章小结 | 第60-61页 |
6 结论、展望及创新点 | 第61-63页 |
6.1 结论 | 第61-62页 |
6.2 展望 | 第62页 |
6.3 创新点 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-75页 |
攻读学位期间发表学术论文目录 | 第75-77页 |