| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-30页 |
| 1.1 ZnO材料基本性质 | 第12-15页 |
| 1.1.1 ZnO材料的基本结构 | 第12-13页 |
| 1.1.2 ZnO的光电性能 | 第13-14页 |
| 1.1.3 ZnO的其他特性 | 第14页 |
| 1.1.4 ZnO一维纳米材料研究进展 | 第14-15页 |
| 1.2 染料敏化太阳能电池概论 | 第15-20页 |
| 1.2.1 太阳能电池的研究背景 | 第15-17页 |
| 1.2.2 染料敏化太阳能电池的结构 | 第17-19页 |
| 1.2.3 染料敏化太阳能电池的原理 | 第19页 |
| 1.2.4 ZnO基DSSC器件的研究背景和应用前景 | 第19-20页 |
| 1.3 ZnO纳米结构光催化原理及改进方法 | 第20-27页 |
| 1.3.1 半导体光催化原理 | 第20-23页 |
| 1.3.2 ZnO的修饰与改性 | 第23-27页 |
| 1.4 立题背景和主要研究内容 | 第27-30页 |
| 第二章 ZnO纳米结构制备 | 第30-42页 |
| 2.1 实验设备和原理 | 第30-31页 |
| 2.2 纳米材料的表征手段 | 第31-32页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第31页 |
| 2.2.2 扫描电镜(SEM) | 第31页 |
| 2.2.3 透射电镜(TEM) | 第31-32页 |
| 2.2.4 荧光光谱(PL) | 第32页 |
| 2.3 实验部分 | 第32-36页 |
| 2.3.1 实验仪器与试剂 | 第32页 |
| 2.3.2 ZnO缓冲层的制备 | 第32-34页 |
| 2.3.3 ZnO超长高取向性阵列的制备 | 第34页 |
| 2.3.4 ZnO阵列无缓冲层制备 | 第34-35页 |
| 2.3.5 ZnO三维结构的制备 | 第35-36页 |
| 2.4 ZnO纳米阵列的表征 | 第36-37页 |
| 2.5 ZnO纳米结构的生长条件 | 第37-41页 |
| 2.5.1 一维ZnO纳米线阵列 | 第37-39页 |
| 2.5.2 三维ZnO纳米结构 | 第39-41页 |
| 2.6 小结 | 第41-42页 |
| 第三章 TiO_2修饰对DSSC光电性能的影响 | 第42-50页 |
| 3.1 ZnO基DSSC | 第42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第42-43页 |
| 3.2.2 TiO_2修饰ZnO纳米阵列的制备过程 | 第43页 |
| 3.2.3 表征手段 | 第43页 |
| 3.2.4 DSSC光电转换效率测试 | 第43-44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-48页 |
| 3.3.1 TiO_2修饰后ZnO纳米结构的结构与物相分析 | 第44-46页 |
| 3.3.2 TiO_2修饰后ZnO纳米结构的荧光光谱测试 | 第46-47页 |
| 3.3.3 TiO_2修饰后ZnO纳米结构的光电转换效率测试 | 第47-48页 |
| 3.4 小结 | 第48-50页 |
| 第四章 ZnO纳米结构光催化性能研究 | 第50-61页 |
| 4.1 实验部分 | 第50-53页 |
| 4.1.1 试剂与仪器 | 第50-51页 |
| 4.1.2 表面修饰 | 第51-52页 |
| 4.1.3 表征手段 | 第52页 |
| 4.1.4 光催化效率测试 | 第52-53页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第53-60页 |
| 4.2.1 HfO_2/ZnO结构 | 第53-57页 |
| 4.2.2 Al_2O_3/ZnO结构 | 第57-59页 |
| 4.2.3 三维ZnO结构 | 第59-60页 |
| 小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 个人简历 | 第65-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第66页 |
