| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 金属Zn的性质及结构 | 第13页 |
| 1.3 金属电沉积的相关理论 | 第13-14页 |
| 1.4 金属Zn电沉积的电极反应 | 第14-15页 |
| 1.5 添加剂对电沉积Zn过程的影响 | 第15-19页 |
| 1.5.1 添加剂分类与选择 | 第15-16页 |
| 1.5.2 添加剂的对Zn沉积的作用机理 | 第16-19页 |
| 1.5.2.1 几种常用添加剂的作用机理 | 第16-19页 |
| 1.6 ZnO薄膜的研究概况 | 第19-22页 |
| 1.6.1 ZnO的结构 | 第19-20页 |
| 1.6.2 常用的制备ZnO薄膜的方法 | 第20-22页 |
| 1.7 一维ZnO纳米结构的形成机理 | 第22-23页 |
| 1.8 ZnO薄膜光催化剂的研究概况 | 第23-28页 |
| 1.8.1 ZnO薄膜光催化机理 | 第24-26页 |
| 1.8.2 影响ZnO薄膜光催化的因素 | 第26-28页 |
| 1.9 本文的创新点及主要工作 | 第28-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-36页 |
| 2.1 试剂 | 第29页 |
| 2.2 电沉积实验 | 第29-30页 |
| 2.2.1 实验仪器及材料 | 第29页 |
| 2.2.2 基底预处理 | 第29-30页 |
| 2.2.3 沉积金属Zn薄膜 | 第30页 |
| 2.3 ZnO薄膜的制备 | 第30页 |
| 2.4 薄膜结构与形貌的分析 | 第30-35页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第30-32页 |
| 2.4.2 X-射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| 2.4.3 紫外-可见分光光度计 | 第33-35页 |
| 2.5 光催化实验 | 第35-36页 |
| 第三章 条纹形貌Zn膜的制备 | 第36-47页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第36-46页 |
| 3.2.1 添加剂PVP对影响 | 第37-42页 |
| 3.2.1.1 阴极极化曲线 | 第37-38页 |
| 3.2.1.2 PVP对沉积Zn形貌的影响 | 第38页 |
| 3.2.1.3 不同沉积时间的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.1.4 PVP浓度的影响 | 第40-42页 |
| 3.2.2 电沉积参数对条纹Zn膜的影响 | 第42-45页 |
| 3.2.2.1 电流密度的影响 | 第42-44页 |
| 3.2.2.2 Zn~(2+)浓度的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.3 条纹Zn薄膜的机理 | 第45-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 煅烧温度对条纹微/纳米针ZnO薄膜的影响 | 第47-57页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第47-55页 |
| 4.2.1 沉积时间对ZnO微/纳米针的影响 | 第47-49页 |
| 4.2.2 一步热氧化温度对ZnO薄膜的影响 | 第49-53页 |
| 4.2.3 两步热氧化对ZnO薄膜光催化性能的影响 | 第53-55页 |
| 4.3 ZnO微/纳米针的形成机理 | 第55-56页 |
| 4.4 结论 | 第56-57页 |
| 第五章 条纹微/纳米针ZnO薄膜的光催化性能 | 第57-64页 |
| 5.1 引言 | 第57页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第57-63页 |
| 5.2.1 沉积时间 | 第58-60页 |
| 5.2.2 煅烧温度的影响 | 第60-61页 |
| 5.2.3 氧化时间的影响 | 第61页 |
| 5.2.4 两步热氧化的影响 | 第61-63页 |
| 5.3 本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 总结 | 第64页 |
| 6.2 展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第78-79页 |