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D/M/D结构的透明导电薄膜的制备及性能的研究

中文摘要第6-8页
ABSTRACT第8-9页
第一章 绪论第14-25页
    1.1 概述第14页
    1.2 透明导电氧化物的种类及特点第14-19页
        1.2.1 In_2O_3透明导电薄膜第15-16页
        1.2.2 SnO_2透明导电薄膜第16-17页
        1.2.3 ZnO透明导电薄膜第17-18页
        1.2.4 TiO_2基透明导电薄膜第18页
        1.2.5 复合多层透明导电薄膜第18-19页
    1.3 薄膜的制备和表征方法第19-22页
        1.3.1 磁控溅射法第19-20页
        1.3.2 化学气相沉积法第20-21页
        1.3.3 电子束蒸发法第21页
        1.3.4 溶胶凝胶法第21页
        1.3.5 脉冲激光沉积第21-22页
    1.4 透明导电氧化物薄膜的应用第22-23页
    1.5 本论文研究内容及研究意义第23-25页
第二章 TiO_2/Cu/TiO_2透明导电薄膜的制备及表征方法第25-32页
    2.1 电子束蒸发法制备TiO_2/Cu/TiO_2薄膜的工艺控制第25-29页
        2.1.1 电子束蒸发设备第25-27页
        2.1.2 实验材料的选择第27页
        2.1.3 TiO_2/Cu/TiO_2薄膜的制备方案第27-28页
        2.1.4 TiO_2/Cu/TiO_2薄膜制备流程第28-29页
    2.2 TiO_2/Cu/TiO_2薄膜制备工艺参数第29页
    2.3 薄膜性能的表征方法第29-31页
        2.3.1 场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)第29页
        2.3.2 X射线衍射物相分析(XRD)第29-30页
        2.3.3 X射线光电子能谱(XPS)第30页
        2.3.4 紫外可见分光光度计(UV-visspectrophotometry)第30页
        2.3.5 霍尔效应测试仪第30-31页
    2.4 本章小结第31-32页
第三章 Cu层厚度对TiO_2/Cu/TiO_2透明导电薄膜的影响第32-37页
    3.1 不同Cu层厚度TiO_2/Cu/TiO_2薄膜的制备第32-33页
    3.2 Cu层厚度对TiO_2/Cu/TiO_2复合薄膜光电性能的影响第33-36页
        3.2.1 Cu的厚度对复合薄膜电学特性的影响第33-35页
        3.2.2 Cu的厚度对复合薄膜光学特性的影响第35-36页
    3.3 本章小结第36-37页
第四章 退火温度对TiO_2/Cu/TiO_2透明导电薄膜的影响第37-42页
    4.1 引言第37页
    4.2 不同退火温度TiO_2/Cu/TiO_2透明导电薄膜的制备第37页
    4.3 退火温度对TiO_2/Cu/TiO_2透明导电薄膜的影响第37-41页
        4.3.1 退火温度对复合薄膜结构特性的影响第37-38页
        4.3.2 退火温度对复合薄膜表面形貌的影响第38-39页
        4.3.3 退火温度对复合薄膜电学特性的影响第39-40页
        4.3.4 退火温度对复合薄膜光学特性的影响第40-41页
    4.4 本章小结第41-42页
第五章 ZnO/Mo/ZnO透明导电薄膜的制备第42-45页
    5.1 概述第42页
    5.2 实验设备和实验材料的选择第42-43页
    5.3 薄膜的制备流程第43-44页
    5.4 薄膜的工艺参数第44页
    5.5 本章小结第44-45页
第六章 退火温度对ZnO/Mo/ZnO透明导电薄膜的影响第45-52页
    6.1 不同退火温度的ZnO/Mo/ZnO透明导电薄膜的制备第45页
    6.2 退火温度对ZnO/Mo/ZnO复合透明导电薄膜结构的影响第45-47页
    6.3 退火温度对ZnO/Mo/ZnO复合透明导电薄膜表面形貌的影响第47-49页
    6.4 退火温度对ZnO/Mo/ZnO复合透明导电薄膜电学特性的影响第49-50页
    6.5 退火温度对ZnO/Mo/ZnO复合透明导电薄膜光学特性的影响第50-51页
    6.6 本章小结第51-52页
第七章 结论第52-54页
参考文献第54-60页
在读期间公开发表的论文和参与的科研项目第60页

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