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50 Hz磁场和低剂量镉复合暴露影响JAR细胞活力及机制研究

致谢第5-7页
中文摘要第7-11页
Abstract第11-14页
缩略语表第15-18页
1 引言第18-20页
2 研究思路第20-21页
3 材料和仪器第21-27页
    3.1 主要实验试剂和材料第21-22页
    3.2 主要试剂配方第22-23页
    3.3 主要实验仪器第23-27页
4 实验方法第27-33页
    4.1 细胞培养第27页
    4.2 极低频磁场暴露系统和暴露参数的选择第27-28页
    4.3 低剂量化学毒物处理第28页
    4.4 细胞活力检测第28页
    4.5 Western Blot蛋白免疫印迹法第28-29页
    4.6 TMT全蛋白定量蛋白质组学分析(液相色谱-质谱联用技术)第29-32页
    4.7 统计学分析第32-33页
5 实验结果第33-53页
    5.1 50 Hz磁场暴露对JAR细胞行为学的影响第33-38页
    5.2 低剂量化学毒物镉与铬暴露对JAR细胞活力的影响第38-41页
    5.3 50 Hz磁场与低剂量镉复合暴露对JAR细胞活力的影响第41-44页
    5.4 50 Hz磁场和低剂量镉复合暴露影响JAR细胞活力的作用机制研究第44-53页
6 讨论第53-58页
7 结论第58-59页
补充材料第59-83页
参考文献第83-89页
综述第89-101页
    参考文献第98-101页
作者简历及在硕士期间取科科研成果第101页

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