中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第1章 绪论 | 第9-25页 |
1.1 研究背景 | 第9页 |
1.2 半导体光催化研究概述 | 第9-12页 |
1.2.1 半导体光催化技术简介 | 第9-11页 |
1.2.2 半导体光催化反应的基本原理 | 第11-12页 |
1.2.3 半导体光催化材料的类型 | 第12页 |
1.3 纳米Fe_2O_3的研究现状 | 第12-17页 |
1.3.1 纳米Fe_2O_3的性质 | 第13-14页 |
1.3.2 纳米Fe_2O_3的制备方法 | 第14-15页 |
1.3.3 纳米Fe_2O_3的应用 | 第15-17页 |
1.4 石墨烯的研究现状 | 第17-21页 |
1.4.1 石墨烯的概述 | 第17-18页 |
1.4.2 石墨烯的制备方法 | 第18-19页 |
1.4.3 石墨烯的应用 | 第19-20页 |
1.4.4 N掺杂石墨烯的研究概述 | 第20-21页 |
1.5 石墨相氮化碳研究概述 | 第21-23页 |
1.6 课题的立项依据及研究的内容 | 第23-25页 |
1.6.1 课题的立题依据 | 第23-24页 |
1.6.2 研究内容及意义 | 第24-25页 |
第2章 实验材料及实验方法 | 第25-36页 |
2.1 实验试剂与仪器设备 | 第25-27页 |
2.1.1 实验试剂 | 第25-26页 |
2.1.2 仪器设备 | 第26-27页 |
2.2 催化剂的表征方法 | 第27-34页 |
2.2.1 X-射线衍射 | 第27-28页 |
2.2.2 紫外-可见分光光度计 | 第28-29页 |
2.2.3 拉曼光谱仪 | 第29页 |
2.2.4 透射电子显微镜 | 第29-30页 |
2.2.5 X-射线光电子能谱 | 第30页 |
2.2.6 表面光电压谱 | 第30-32页 |
2.2.7 羟基自由基测试 | 第32-33页 |
2.2.8 程序升温脱附法 | 第33页 |
2.2.9 电化学工作站 | 第33-34页 |
2.3 催化剂光催化活性评价 | 第34-36页 |
第3章 石墨型N掺杂的石墨烯对Fe_2O_3复合改性研究 | 第36-56页 |
3.1 前言 | 第36页 |
3.2 实验部分 | 第36-39页 |
3.2.1 样品的制备 | 第36-38页 |
3.2.2 样品表征和光催化性能测试 | 第38-39页 |
3.3 结果与讨论 | 第39-54页 |
3.3.1 N掺杂石墨烯的结构表征 | 第39-42页 |
3.3.2 复合体的结构表征 | 第42-44页 |
3.3.3 光生电荷分离性质 | 第44-47页 |
3.3.4 光催化活性的测试 | 第47-48页 |
3.3.5 光催化机制分析 | 第48-54页 |
3.4 本章小结 | 第54-56页 |
第4章 g-C3N4对Fe_2O_3光催化剂的复合改性研究 | 第56-75页 |
4.1 前言 | 第56页 |
4.2 实验部分 | 第56-59页 |
4.2.1 样品的制备 | 第56-58页 |
4.2.2 样品表征和光催化性能测试 | 第58-59页 |
4.3 结果与讨论 | 第59-74页 |
4.3.1 含C的二维结构异质体对Fe_2O_3复合改性的对比研究 | 第59-68页 |
4.3.2 g-C_3N_4对Fe_2O_3光催化剂的复合改性优化研究 | 第68-74页 |
4.4 本章小结 | 第74-75页 |
结论 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
攻读学位期间发表的论文 | 第86页 |