| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-45页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 聚酰亚胺在航天领域的应用 | 第14页 |
| 1.3 空间环境的危害 | 第14-16页 |
| 1.3.1 LEO环境中AO的危害 | 第14-15页 |
| 1.3.2 AO与紫外辐射的协同效应 | 第15页 |
| 1.3.3 AO对基层材料的掏蚀作用 | 第15-16页 |
| 1.4 提高材料抗AO性能的防护措施 | 第16-31页 |
| 1.4.1 建立防护涂层 | 第16-20页 |
| 1.4.2 复合填充法 | 第20-22页 |
| 1.4.3 基体增强法 | 第22-31页 |
| 1.5 聚酰亚胺在微电子领域的应用 | 第31页 |
| 1.6 降低聚酰亚胺介电常数的途径 | 第31-40页 |
| 1.6.1 引入低摩尔极化率的单体 | 第31-33页 |
| 1.6.2 引入可显著提高聚合物自由体积的单体 | 第33-35页 |
| 1.6.3 引入空气隙或使聚合物微孔化 | 第35-38页 |
| 1.6.4 引入低介电常数纳米填料 | 第38-40页 |
| 1.7 选题背景与意义 | 第40-42页 |
| 1.8 本论文的主要研究内容 | 第42-45页 |
| 第二章 不同氧化态硅/聚酰亚胺杂化薄膜制备及其抗原子氧性能研究 | 第45-59页 |
| 2.1 前言 | 第45页 |
| 2.2 实验部分 | 第45-51页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第45-46页 |
| 2.2.2 合成方法 | 第46-49页 |
| 2.2.3 表征方法 | 第49-51页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第51-57页 |
| 2.3.1 聚酰亚胺薄膜的红外分析 | 第51页 |
| 2.3.2 杂化薄膜均一性研究 | 第51-52页 |
| 2.3.3 聚酰亚胺薄膜的各项性能 | 第52-53页 |
| 2.3.4 聚酰亚胺薄膜的表面形貌 | 第53页 |
| 2.3.5 AO辐照前后聚酰亚胺薄膜表面XPS分析 | 第53-56页 |
| 2.3.6 腐蚀/防护机理探讨 | 第56-57页 |
| 2.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第三章 双氨基倍半硅氧烷（POSS）聚酰亚胺的合成及其抗AO性能研究 | 第59-81页 |
| 3.1 引言 | 第59-60页 |
| 3.2 实验部分 | 第60-63页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第60页 |
| 3.2.2 合成方法 | 第60-62页 |
| 3.2.3 表征方法 | 第62-63页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第63-78页 |
| 3.3.1 双氨基POSS的合成 | 第63-64页 |
| 3.3.2 双氨基POSS的结构表征 | 第64-66页 |
| 3.3.3 双氨基POSS的热氧稳定性 | 第66-67页 |
| 3.3.4 POSS聚酰亚胺杂化薄膜的结构表征 | 第67-69页 |
| 3.3.5 POSS聚酰亚胺杂化薄膜的透光性 | 第69页 |
| 3.3.6 POSS聚酰亚胺杂化薄膜的机械性能 | 第69-70页 |
| 3.3.7 POSS聚酰亚胺杂化薄膜的热性能 | 第70-73页 |
| 3.3.8 POSS聚酰亚胺杂化薄膜的抗AO性能 | 第73-78页 |
| 3.4 本章小结 | 第78-81页 |
| 第四章 超支化聚硅氧烷（HBPSi）聚酰亚胺的合成及其抗AO性能研究 | 第81-99页 |
| 4.1 引言 | 第81-82页 |
| 4.2 实验部分 | 第82-85页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第82页 |
| 4.2.2 合成方法 | 第82-84页 |
| 4.2.3 表征方法 | 第84-85页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第85-98页 |
| 4.3.1 HBPSi的结构表征 | 第85-87页 |
| 4.3.2 HBPSi聚酰亚胺薄膜的红外分析 | 第87-88页 |
| 4.3.3 HBPSi聚酰亚胺薄膜的热性能 | 第88-89页 |
| 4.3.4 HBPSi聚酰亚胺薄膜的力学性能 | 第89-90页 |
| 4.3.5 HBPSi聚酰亚胺薄膜的抗AO性能 | 第90-91页 |
| 4.3.6 HBPSi聚酰亚胺薄膜经AO辐照前后的表面形貌 | 第91-92页 |
| 4.3.7 AO辐照前后聚酰亚胺薄膜表面XPS分析 | 第92-95页 |
| 4.3.8 HBPSi聚酰亚胺在模拟AO环境中的腐蚀与防护机理探讨 | 第95-96页 |
| 4.3.9 HBPSi聚酰亚胺薄膜经AO辐照前后的透光性 | 第96-98页 |
| 4.4 本章小结 | 第98-99页 |
| 第五章 超支化聚硅氧烷（HBPSi'）改善聚酰亚胺抗AO性能的阈值效应研究 | 第99-117页 |
| 5.1 引言 | 第99-100页 |
| 5.2 实验部分 | 第100-102页 |
| 5.2.1 实验试剂 | 第100页 |
| 5.2.2 合成方法 | 第100-102页 |
| 5.2.3 表征方法 | 第102页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第102-114页 |
| 5.3.1 HBPSi' 的合成 | 第102-103页 |
| 5.3.2 HBPSi' 的分子结构分析 | 第103页 |
| 5.3.3 HBPSi' 聚酰亚胺的热性能与力学性能 | 第103页 |
| 5.3.4 HBPSi' 聚酰亚胺薄膜在模拟AO环境中的质量损失与降解行为 | 第103-105页 |
| 5.3.5 HBPSi' 聚酰亚胺薄膜表面化学组成在模拟AO环境中的演变 | 第105-110页 |
| 5.3.6 HBPSi' 聚酰亚胺薄膜表面形貌在模拟AO环境中的演变 | 第110-114页 |
| 5.4 本章小结 | 第114-117页 |
| 第六章 超支化聚硅氧烷（HBPSi"）聚酰亚胺的合成及其介电性能研究 | 第117-135页 |
| 6.1 引言 | 第117-118页 |
| 6.2 实验部分 | 第118-122页 |
| 6.2.1 实验试剂 | 第118-119页 |
| 6.2.2 合成方法 | 第119-120页 |
| 6.2.3 表征方法 | 第120-122页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第122-134页 |
| 6.3.1 HBPSi" 的结构表征 | 第122-124页 |
| 6.3.2 HBPSi" 聚酰亚胺薄膜的结构表征 | 第124-127页 |
| 6.3.3 HBPSi" 聚酰亚胺薄膜的介电性能 | 第127-130页 |
| 6.3.4 HBPSi" 聚酰亚胺薄膜的的吸水性 | 第130页 |
| 6.3.5 HBPSi" 聚酰亚胺薄膜的力学性能 | 第130-131页 |
| 6.3.6 HBPSi" 聚酰亚胺薄膜的热性能 | 第131-134页 |
| 6.4 本章小结 | 第134-135页 |
| 第七章 支化可溶性聚酰亚胺的合成及其介电性能研究 | 第135-155页 |
| 7.1 引言 | 第135-136页 |
| 7.2 实验部分 | 第136-138页 |
| 7.2.1 实验试剂 | 第136页 |
| 7.2.2 合成方法 | 第136-138页 |
| 7.2.3 表征方法 | 第138页 |
| 7.3 结果与讨论 | 第138-153页 |
| 7.3.1 超支化聚酰亚胺的合成 | 第138-140页 |
| 7.3.2 超支化聚酰亚胺的结构表征 | 第140-145页 |
| 7.3.3 超支化聚酰亚胺薄膜的力学性能 | 第145-146页 |
| 7.3.4 超支化聚酰亚胺薄膜的热性能 | 第146-149页 |
| 7.3.5 超支化聚酰亚胺薄膜的介电性能 | 第149-153页 |
| 7.4 本章小结 | 第153-155页 |
| 第八章 结论与创新点 | 第155-159页 |
| 8.1 结论 | 第155-157页 |
| 8.2 创新点 | 第157-159页 |
| 参考文献 | 第159-177页 |
| 致谢 | 第177-179页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文和参加科研情况 | 第179-183页 |
