| 致谢 | 第4-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 缩略语 | 第10-13页 |
| 1 引言 | 第13-16页 |
| 2 实验材料 | 第16-23页 |
| 2.1 实验细胞 | 第16页 |
| 2.2 主要试剂 | 第16-17页 |
| 2.3 主要仪器设备 | 第17-18页 |
| 2.4 主要耗材 | 第18页 |
| 2.5 缓冲液与常用试剂配制 | 第18-21页 |
| 2.6 辐照系统 | 第21-22页 |
| 2.7 分析软件 | 第22-23页 |
| 3 实验方法 | 第23-51页 |
| 3.1 工频磁场暴露对FL细胞鞘磷脂含量的影响 | 第23-34页 |
| 3.2 工频磁场暴露对FL细胞二氢鞘氨醇含量的影响 | 第34-38页 |
| 3.3 工频磁场暴露对FL细胞内神经酰胺下游代谢分子含量的影响 | 第38-42页 |
| 3.4 工频磁场暴露对FL细胞内神经酰胺介导的下游信号分子的影响 | 第42-46页 |
| 3.5 工频磁场暴露对FL细胞内ERK1/2磷酸化水平的影响 | 第46页 |
| 3.6 工频磁场暴露条件下鞘氨醇1-磷酸与ERK1/2磷酸化之间的关系 | 第46-47页 |
| 3.7 工频磁场暴露对FL细胞增殖的影响 | 第47-48页 |
| 3.8 工频磁场暴露条件下细胞内ERK1/2磷酸化与增殖之间的关系 | 第48-50页 |
| 3.9 工频磁场暴露条件下鞘氨醇1-磷酸与细胞增殖之间的关系 | 第50-51页 |
| 4. 实验结果 | 第51-61页 |
| 4.1 工频磁场暴露对FL细胞内鞘磷脂含量的影响 | 第51-52页 |
| 4.2 工频磁场暴露对FL细胞二氢鞘氨醇含量的影响 | 第52-53页 |
| 4.3 工频磁场暴露对FL细胞内神经酰胺下游代谢分子含量的影响 | 第53-54页 |
| 4.4 工频磁场暴露对FL细胞内神经酰胺介导的下游信号通路的影响 | 第54-56页 |
| 4.5 工频磁场暴露对FL细胞内ERK1/2磷酸化水平的影响 | 第56页 |
| 4.6 工频磁场暴露条件下鞘氨醇1-磷酸与ERK1/2磷酸化之间的关系 | 第56-57页 |
| 4.7 工频磁场暴露对FL细胞增殖的影响 | 第57-58页 |
| 4.8 工频磁场暴露条件下细胞内ERK1/2磷酸化与增殖之间的关系 | 第58-59页 |
| 4.9 工频磁场暴露条件下鞘氨醇1-磷酸与细胞增殖之间的关系 | 第59-61页 |
| 5. 讨论 | 第61-65页 |
| 6. 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 综述 | 第71-84页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 作者简介及科研成果 | 第84页 |
