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掩模台三自由度光栅干涉测量模型研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-18页
    1.1 课题研究的目的与意义第9-10页
    1.2 光刻机超精密工作台多自由度测量系统发展第10-16页
        1.2.1 多自由度测量系统国内外研究现状第11-14页
        1.2.2 多自由度位移测量模型研究现状第14-16页
    1.3 目前存在的问题第16页
    1.4 课题主要研究内容第16-18页
第2章 掩模台三自由度光栅干涉测量系统原理第18-28页
    2.1 引言第18页
    2.2 掩模台位置测量系统技术指标分析第18-19页
    2.3 掩模台多自由度测量原理第19-27页
        2.3.1 光栅干涉仪测量原理第19-24页
        2.3.2 光栅干涉仪测量布局第24-26页
        2.3.3 电容传感器测量布局第26-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第3章 掩模台三自由度光栅干涉测量模型建立第28-50页
    3.1 引言第28页
    3.2 测量系统坐标系的定义第28-30页
    3.3 光栅干涉仪读数与掩模台位置关系第30-31页
    3.4 不考虑安装误差的光栅干涉仪测量全局模型第31-36页
        3.4.1 Y向测量轴全局模型第32-35页
        3.4.2 X向测量轴全局模型第35-36页
    3.5 考虑安装误差的光栅干涉仪测量全局模型第36-41页
        3.5.1 Y向测量轴全局模型第36-40页
        3.5.2 X向测量轴全局模型第40-41页
    3.6 光栅干涉测量全局模型仿真分析第41-49页
    3.7 本章小结第49-50页
第4章 测量模型线性化解算方法研究第50-66页
    4.1 引言第50页
    4.2 线性化测量模型数值解算方法第50-51页
    4.3 不考虑安装误差测量模型的线性模型及其系数推导第51-57页
        4.3.1 X向线性模型及其系数推导第52-53页
        4.3.2 Y向线性模型及其系数推导第53-57页
    4.4 考虑安装误差测量模型的线性模型及其系数推导第57-62页
        4.4.1 X向线性模型及其系数推导第57-59页
        4.4.2 Y向线性模型及其系数推导第59-62页
    4.5 线性化模型仿真分析第62-65页
    4.6 本章小结第65-66页
结论第66-68页
参考文献第68-73页
致谢第73-74页
附录A第74页

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