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Ti3SiC2表面TiO2纳米阵列的制备与光吸收特性研究

摘要第3-5页
abstract第5-7页
1 绪论第11-23页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 TiO_2的基本性质第12-13页
        1.2.1 TiO_2的晶体结构第12页
        1.2.2 TiO_2的能带结构第12-13页
    1.3 TiO_2纳米管的制备方法第13-15页
        1.3.1 模板合成法第13-14页
        1.3.2 水热合成法第14-15页
        1.3.3 阳极氧化法第15页
    1.4 阳极氧化制备TiO_2纳米管的研究现状第15-18页
        1.4.1 形成机理研究第15-16页
        1.4.2 影响因素研究第16-18页
    1.5 TiO_2纳米管的改性第18-21页
        1.5.1 非金属离子掺杂第19-20页
        1.5.2 金属离子掺杂第20页
        1.5.3 共掺杂第20-21页
    1.6 本课题的研究目的、意义及研究内容第21-23页
        1.6.1 研究目的及意义第21页
        1.6.2 研究内容第21-23页
2 实验部分第23-31页
    2.1 实验试剂及设备第23-24页
        2.1.1 实验试剂第23页
        2.1.2 实验设备第23-24页
    2.2 实验方法第24-28页
        2.2.1 Ti_3SiC_2试样的制备与预处理第24-26页
        2.2.2 钛片的预处理第26-27页
        2.2.3 阳极氧化实验第27-28页
    2.3 实验表征方法第28-31页
        2.3.1 场发射扫描电子显微镜第28页
        2.3.2 X射线衍射分析第28-29页
        2.3.3 X射线光电子能谱分析第29页
        2.3.4 紫外-可见漫反射吸收光谱分析第29-31页
3 阳极氧化Ti_3SiC_2制备纳米孔阵列第31-47页
    3.1 氧化工艺条件对表面形貌的影响第31-37页
        3.1.1 含水量对表面形貌的影响第31-32页
        3.1.2 NH_4F浓度对表面形貌的影响第32-34页
        3.1.3 氧化电压对表面形貌的影响第34-35页
        3.1.4 氧化温度对表面形貌的影响第35-36页
        3.1.5 氧化时间对表面形貌的影响第36-37页
    3.2 热处理温度对相组成和表面形貌的影响第37-40页
        3.2.1 热处理温度对相组成的影响第37-38页
        3.2.2 热处理温度对表面形貌的影响第38-40页
    3.3 化学组成和氧化态分析第40-41页
    3.4 紫外-可见漫反射吸收光谱分析第41-42页
    3.5 电流-时间曲线分析第42-45页
        3.5.1 含水量对I-t曲线的影响第42-43页
        3.5.2 NH_4F浓度对I-t曲线的影响第43-44页
        3.5.3 氧化电压对I-t曲线的影响第44-45页
    3.6 本章小结第45-47页
4 阳极氧化Ti制备纳米管阵列第47-59页
    4.1 氧化工艺条件对表面形貌的影响第47-50页
        4.1.1 含水量对表面形貌的影响第47-48页
        4.1.2 NH_4F浓度对表面形貌的影响第48-50页
        4.1.3 氧化电压对表面形貌的影响第50页
    4.2 热处理温度对相组成的影响第50-52页
    4.3 化学组成和氧化态分析第52-53页
    4.4 紫外-可见漫反射吸收光谱分析第53页
    4.5 电流-时间曲线分析第53-56页
        4.5.1 含水量对I-t曲线的影响第54-55页
        4.5.2 NH_4F浓度对I-t曲线的影响第55页
        4.5.3 氧化电压对I-t曲线的影响第55-56页
    4.6 本章小结第56-59页
5 阳极氧化Ti_3SiC_2和Ti的对比分析第59-65页
    5.1 Ti_3SiC_2的晶体结构第59-60页
    5.2 表面形貌对比分析第60-61页
    5.3 氧化产物对比分析第61页
    5.4 光吸收特性对比分析第61-63页
    5.5 本章小结第63-65页
6 结论第65-67页
参考文献第67-77页
附录 硕士研究生期间发表论文第77-79页
致谢第79页

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