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C60@BNNTs和Br@AFI两种纳米限域体系的常压和高压理论研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第一章 引言第11-22页
    1.1 一维限域体系的常压研究第11-17页
        1.1.1 氮化硼管中填充物质的研究第11-14页
        1.1.2 分子筛晶体孔道中填充物质的研究第14-17页
    1.2 一维限域体系的高压研究第17-21页
        1.2.1 溴的高压研究第18-19页
        1.2.2 分子筛的高压研究第19-20页
        1.2.3 限域体系下分子和原子的高压研究第20-21页
    1.3 本工作的目的及主要内容第21-22页
第二章 理论方法的介绍第22-29页
    2.1 经典力场的势函数第22-23页
    2.2 第一性原理第23-29页
        2.2.1 绝热近似和单电子近似理论第24-25页
        2.2.2 密度泛函理论第25-27页
        2.2.3 计算软件包的介绍第27-29页
第三章 一维氮化硼管道中C_(60)分子稳定取向的研究第29-37页
    3.1 引言第29页
    3.2 模型第29-31页
    3.3 计算方法第31-32页
    3.4 结果和讨论第32-36页
        3.4.1 模拟计算数据第32-34页
        3.4.2 双分子模型与单分子模型计算对比分析第34页
        3.4.3 限域体系中相互作用的竞争机制分析第34-36页
    3.5 本章小结第36-37页
第四章 Br@AFI的高压研究第37-46页
    4.1 引言第37-38页
    4.2 模型第38页
    4.3 计算方法第38-39页
    4.4 结果和讨论第39-45页
        4.4.1 高压下Br@AFI体系结构变化第39-42页
        4.4.2 高压下Br@AFI体系力学电学性质第42-45页
    4.5 本章小结第45-46页
第五章 结论第46-47页
参考文献第47-55页
作者简介及在学期间所取得的科研成果第55-56页
致谢第56页

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