摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第一章 引言 | 第11-22页 |
1.1 一维限域体系的常压研究 | 第11-17页 |
1.1.1 氮化硼管中填充物质的研究 | 第11-14页 |
1.1.2 分子筛晶体孔道中填充物质的研究 | 第14-17页 |
1.2 一维限域体系的高压研究 | 第17-21页 |
1.2.1 溴的高压研究 | 第18-19页 |
1.2.2 分子筛的高压研究 | 第19-20页 |
1.2.3 限域体系下分子和原子的高压研究 | 第20-21页 |
1.3 本工作的目的及主要内容 | 第21-22页 |
第二章 理论方法的介绍 | 第22-29页 |
2.1 经典力场的势函数 | 第22-23页 |
2.2 第一性原理 | 第23-29页 |
2.2.1 绝热近似和单电子近似理论 | 第24-25页 |
2.2.2 密度泛函理论 | 第25-27页 |
2.2.3 计算软件包的介绍 | 第27-29页 |
第三章 一维氮化硼管道中C_(60)分子稳定取向的研究 | 第29-37页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 模型 | 第29-31页 |
3.3 计算方法 | 第31-32页 |
3.4 结果和讨论 | 第32-36页 |
3.4.1 模拟计算数据 | 第32-34页 |
3.4.2 双分子模型与单分子模型计算对比分析 | 第34页 |
3.4.3 限域体系中相互作用的竞争机制分析 | 第34-36页 |
3.5 本章小结 | 第36-37页 |
第四章 Br@AFI的高压研究 | 第37-46页 |
4.1 引言 | 第37-38页 |
4.2 模型 | 第38页 |
4.3 计算方法 | 第38-39页 |
4.4 结果和讨论 | 第39-45页 |
4.4.1 高压下Br@AFI体系结构变化 | 第39-42页 |
4.4.2 高压下Br@AFI体系力学电学性质 | 第42-45页 |
4.5 本章小结 | 第45-46页 |
第五章 结论 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-55页 |
作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第55-56页 |
致谢 | 第56页 |